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光刻機 文章 進入光刻機技術社區

ASML聲明:2050、2100光刻機出口許可證被部分撤銷

  • 1月2日消息,日前,荷蘭光刻機巨頭ASML在其官網發布聲明,稱部分光刻機出口許可證被撤銷。根據聲明,荷蘭政府最近部分撤銷了2023年NXT:2050i、NXT:2100i光刻系統的出貨許可證,影響了中國大陸的一小部分客戶。ASML預計,目前撤銷出口許可證或最新的美國出口管制限制不會對2023年財務前景產生重大影響。ASML還稱,在最近與美國政府的討論中,ASML進一步澄清了美國出口管制法規的范圍和影響。美國去年10月17日公布的出口管制新規,對用于一些先進生產設施的某些次關鍵DUV浸沒光刻系統施加了限制。
  • 關鍵字: 光刻機  ASML  

英特爾拿到首臺2nm光刻機 重回領先地位?

  • 12月21日,荷蘭光刻機巨頭ASML通過社交媒體宣布,其首套高數值孔徑極紫外(High-NA EUV)光刻機正從荷蘭Veldhoven總部開始裝車發貨,將向英特爾進行交付。數值孔徑(NA)是光刻機光學系統的重要指標,直接決定了光刻的實際分辨率和最高能達到的工藝節點。
  • 關鍵字: 英特爾  2nm  光刻機  EUV  ASML  臺積電  

ASML 向英特爾交付首臺高數值孔徑光刻設備

  • IT之家 12 月 22 日消息,ASML 公司近日通過官方 X(推特)賬號發布推文,宣布已經向英特爾交付首臺高數值孔徑光刻設備。IT之家此前報道,ASML 研制的高數值孔徑光刻設備主要用于生產 2nm 工藝半導體芯片,數值孔徑(NA)光學性能從 0.33 提高到 0.55。ASML 明年規劃產能僅有 10 臺,而英特爾已經預訂了其中 6 臺,不過 ASML 計劃在未來幾年內將此設備產能提高到每年 20 臺。ASML 新的高數值孔徑 EUV 系統涉及一種全新的工具,具有 0.55 數值孔徑的鏡頭
  • 關鍵字: ASML  光刻機  英特爾  

80臺光刻機,88億元!荷蘭正式宣布,外媒:拜登心都碎了

  • 光刻機作為芯片制造的核心設備,被譽為現代工業皇冠上的明珠。它的重要性可以從半導體產業鏈的角度來看。芯片作為電子產品的核心組件,直接決定了企業和國家科技產業發展的上限。而光刻機作為芯片制造的核心工具,直接影響著芯片的制造工藝和性能。因此,擁有自主的光刻機制造能力對于一個國家來說至關重要。然而,中國科學家在向ASML公司請教技術問題時遭遇了嘲諷,這揭示了中國芯片產業在光刻機制造領域的薄弱之處。光刻機的制造難度極高,組裝一臺光刻機需要十萬個零部件,且每個零部件都要達到行業內的最高水準。由于ASML公司使用了大量
  • 關鍵字: 光刻機  中芯國際  

晶圓代工廠商瘋搶光刻機設備!

  • 盡管半導體產業仍處調整周期中,但部分應用市場需求強勁,正吸引半導體廠商積極擴產,而在芯片制造過程中,制造設備不可或缺。近期,為滿足市場需要,全球光刻機大廠ASML又有新動作。ASML大手筆,每年1億歐元扶持柏林廠據德國媒體《商報》(Handelsblatt)報道,近日,荷蘭半導體公司阿斯麥(ASML)將在2023年投資1億歐元(1.09億美元),未來幾年每年將投資相同金額,擴大其位于德國柏林制造工廠的生產和開發能力。ASML德國區董事總經理George Gomba表示,勞動力也將隨之增加。Gomba表示自
  • 關鍵字: 晶圓代工  光刻機  

尼康投放光刻機新產品 尋求逆勢開拓中國市場

  • 據三菱UFJ摩根士丹利證券數據顯示,目前在全球光刻機市場中,掌握了62%市場份額的ASML排行第一,佳能以占比31%取得第二名,而尼康占比僅7%排在了第三位。不過據日經新聞報道,尼康為了重振業績將轉變半導體光刻機業務的戰略,決定逆勢積極開拓中國市場,向中國出口不受出口管制限制的成熟設備。在美國對華實施出口管制的背景下,EUV等先進光刻機、材料被禁止對華出口。尼康精機業務負責人濱谷正人表示,正與日本經濟產業省討論,認為新款光刻機沒有問題,將在中國市場積極銷售。目前尼康除了相機影像業務外,半導體設備相關的精機
  • 關鍵字: 尼康  光刻機  半導體  

繞開ASML重振業績 日本尼康逆勢開拓中國光刻機市場

  • 日本尼康(Nikon)為了重振業績,將大幅轉變半導體光刻機業務的戰略。目前全球市占率排名第3的尼康將采用不違反對華出口管制的成熟技術設備,在2024年投放新產品,通過尋求逆勢開拓中國市場,以實現卷土重來。《日經中文網》報導說,尼康預測2023財年(截至2024年3月)的合并凈利潤將同比減少22%,降至350億日元(約合臺幣72億元)。半導體設備相關的精密機械業務以及相機影像業務是2大支柱,其中高檔微單相機銷售強勁,但精密機械業務低迷影響獲利。報導說,光刻機是半導體制造的核心,三菱UFJ摩根士丹利證券的調查
  • 關鍵字: ASML  尼康  光刻機  

佳能押注納米壓印技術 挑戰光刻機老大ASML

  • 日本佳能一直在投資納米壓印(Nano-imprint Lithography,NIL)這種新的芯片制造技術,并宣布推出“FPA-1200NZ2C”納米壓印半導體制造設備集群。計劃將新型芯片制造設備的價格定為阿斯麥極紫外光刻機的十分之一左右,從而在光刻機領域取得進展。佳能首席執行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示,基于NIL的新型芯片制造設備售價將比阿斯麥(ASML)的極紫外光刻(EUV)設備少一位數,雖然最終的定價目前還沒有敲定,但是可以預見將為小型芯片制造商生產先進芯片開辟出一條新的道路。
  • 關鍵字: 佳能  納米壓印  光刻機  ASML   半導體  

美國封鎖也不可能不賣光刻機!ASML喊話:中國市場明年業務非常樂觀

  • 11月6日消息,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)表示,自家在中國市場明年業務非常樂觀。ASML中國區總裁沈波強調,今年阿斯麥中國的業務增長很快,預期全年中國占阿斯麥全球的營收會超過20%,對明年在中國的業務也非常的樂觀。沈波表示:"我們2023年在中國的招聘是超過200人的,2024年預計業務的發展會繼續帶來很多需求,團隊的擴充應該還會是一個相對比較大的規模。"按照沈波的說法,從1988年首臺機器運到中國,到2023年底,ASML在中國的光刻機加上量測的機臺裝機量接近1400臺。近期美
  • 關鍵字: 光刻機  ASML  

佳能押注納米壓印技術 價格比阿斯麥EUV光刻機“少一位數”

  • 11月6日消息,日本佳能一直在投資納米壓印(Nano-imprint Lithography,NIL)這種新的芯片制造技術,并計劃將新型芯片制造設備的價格定在阿斯麥最好光刻機的很小一部分,從而在光刻機領域取得進展。納米壓印技術是極紫外光刻(EUV)技術的低成本替代品。佳能首席執行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示,該公司最新的納米壓印技術將為小型芯片制造商生產先進芯片開辟出一條道路。“這款產品的價格將比阿斯麥的EUV少一位數,”現年88歲的御手洗富士夫表示。這是他第三次擔任佳能總裁,上一次退
  • 關鍵字: 佳能  納米  壓印技術  阿斯麥  EUV  光刻機  

納米壓印:一個「備胎」走向「臺前」的故事

  • 佳能在 10 月 13 日宣布,正式推出納米壓印半導體制造設備。對于 2004 年就開始探索納米壓印技術的佳能來說,新設備的推出無疑是向前邁出了一大步。佳能推出的這個設備型號是 FPA-1200NZ2C,目前可以實現最小線寬 14nm 的圖案化,相當于生產目前最先進的邏輯半導體所需的 5 納米節點。佳能表示當天開始接受訂單,目前已經向東芝供貨。半導體行業可謂是「苦光刻機久已」,納米壓印設備的到來,讓期盼已久的半導體迎來一線曙光。那么什么是納米壓印技術?這種技術距離真的能夠取代光刻機嗎?納米壓印走向臺前想要
  • 關鍵字: 納米壓印  EUV  光刻機  

佳能尼康,是怎么被ASML甩開的

  • 10 月,光刻機大廠佳能(Canon)公司通過新聞稿宣布,其已經開始銷售基于「納米印刷」(Nanoprinted lithography)技術的芯片生產設備 FPA-1200NZ2C。佳能表示,該設備采用不同于復雜光刻技術的方案,可以制造 5nm 芯片。消息一出,不少人發現這種設備已經達到了 EUV 光刻機的水平,甚至將顛覆行業巨頭 ASML。自從 ASML 成功取代尼康佳能,成為高端光刻機的唯一王者之后,這還是第一次傳出這么震撼的消息。日本的光刻機,從稱霸到被甩開,經歷了什么?來自上個世紀的光鮮上世紀末
  • 關鍵字: 光刻機  佳能  

光刻機巨頭 ASML 第三季度凈利潤 19 億歐元,今年銷售額預計增長 30%

  • IT之家 10 月 18 日消息,光刻機巨頭 ASML 今日公布了第三季度財務業績,凈銷售額為 67 億歐元(IT之家備注:當前約 517.91 億元人民幣),凈利潤為 19 億歐元(當前約 146.87 億元人民幣),環比都稍有下降,毛利率為 51.9%。▲ 官方圖片錯誤,最后一列是 2023 年第三季度ASML 第三季度季度凈預訂額為 26 億歐元(當前約 200.98 億元人民幣),其中 EUV 預訂額為 5 億歐元(當前約 38.65 億元人民幣)。ASML 預計 2023 年第四季度凈
  • 關鍵字: ASML  光刻機  財報  

非光刻方案,佳能開始銷售 5nm 芯片生產設備

  • IT之家 10 月 14 日消息,佳能(Canon)公司近日發布新聞稿,開始銷售芯片生產設備 FPA-1200NZ2C,表示采用不同于復雜光刻技術的方案,可以制造 5 nm 芯片。佳能表示這套生產設備的工作原理和行業領導者 ASML 不同,并非光刻,而更類似于印刷,沒有利用圖像投影的原理將集成電路的微觀結構轉移到硅晶圓上。這套設備可以應用于最小 14 平方毫米的硅晶圓,從而可以生產相當于 5nm 工藝的芯片。佳能表示會繼續改進和發展這套系統,未來有望用于生產 2nm 芯片。IT之家注:納米印刷(
  • 關鍵字: 佳能  光刻機  

俄羅斯正在開發可替代光刻機的芯片制造工具

  • 近期,俄羅斯國際新聞通訊社報道,俄羅斯在開發可以替代光刻機的芯片制造工具。據悉,圣彼得堡理工大學的研究人員開發出了一種“光刻復合體”,可用于蝕刻生產無掩模芯片,這將有助于俄羅斯在微電子領域技術領域獲得主動權。該設備綜合體包括用于無掩模納米光刻和等離子體化學蝕刻的設備,其中一種工具的成本為500萬盧布(約36.7萬元人民幣),另一種工具的成本未知。開發人員介紹,傳統光刻技術需要使用專門的掩膜板來獲取圖像。該裝置由專業軟件控制,可實現完全自動化,隨后的另外一臺設備可直接用于形成納米結構,但也可以制作硅膜,例如
  • 關鍵字: 俄羅斯  光刻機  芯片制造  
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