盡管半導體產業仍處調整周期中，但部分應用市場需求強勁，正吸引半導體廠商積極擴產，而在芯片制造過程中，制造設備不可或缺。近期，為滿足市場需要，全球光刻機大廠ASML又有新動作。

ASML大手筆，每年1億歐元扶持柏林廠

據德國媒體《商報》（Handelsblatt）報道，近日，荷蘭半導體公司阿斯麥（ASML）將在2023年投資1億歐元（1.09億美元），未來幾年每年將投資相同金額，擴大其位于德國柏林制造工廠的生產和開發能力。

ASML德國區董事總經理George Gomba表示，勞動力也將隨之增加。Gomba表示自2022年初以來，已經增加了600名員工。該公司目前在首都擁有1700名員工，預計幾年內將增加到2300人。

據悉，ASML柏林工廠主要生產的零部件包括晶圓臺、光罩盤以及反射鏡等光刻機核心零部件。ASML在2020年收購了這家名為Berliner Glas的工廠。

晶圓代工廠瘋搶光刻機設備

光刻機是一種制造芯片的關鍵設備，利用特定波長的光進行輻射，將掩膜版上特定的圖像精準的印刻在硅片上。目前，光刻機市場高度集中，全球掌握該技術的只有少數幾家企業，其中荷蘭ASML是全球最大的光刻機企業，也是全球最先進的光刻機企業，此外，尼康、佳能、上海微電子裝備等公司亦在積極布局光刻機領域。

而用于曝光半導體的極紫外光刻（EUV）技術，由于造價昂貴、制程復雜、貨源稀少，而ASML是全球唯一在銷售EUV的公司，對7nm以下的先進制程而言，EUV是不可或缺的設備。歷經20余年研發，EUV技術至今成為半導體先進制程中最重要的生產工具，并使得摩爾定律得以延續，據悉，該技術將會讓摩爾定律至少延續再一個十年。

作為重要的EUV設備供應商，ASML正在開發新一代NA-EUV設備，此名稱代表高數值孔徑，其該值越大，可實現的解析度越高，芯片上安裝的電晶體就越多。據悉，1臺NA-EUV售價數億歐元，預計年底前，ASML就會推出全球第1臺高NA-EUV，并交付給英特爾。

目前，臺積電與三星正在使用EUV設備進行制造，包括臺積電7nm、5nm、3nm制程，三星于韓國華城建置的EUV Line (7nm、5nm及4nm)，以及3nm GAA制程等。

臺積電的2nm制程將持續使用EUV技術。而此前，臺積電9月宣布收購將以不超4.328億美元的價格收購英特爾旗下子公司IMS，后者專注于研發和生產電子束光刻機。業界稱，臺積電此舉可確保關鍵設備的技術開發，并滿足2nm商用化的供應需求。

三星在已量產第二代3nm芯片之后，表示將目標定在2nm芯片。三星計劃2025年實現應用在移動領域2nm工藝的量產，于2026和2027分別擴展到HPC及汽車電子。據媒體9月報道，三星正準備確保下一代EUV光刻機High-NA的產量，預計這款設備將于今年晚些時候推出原型，明年正式供貨。

而英特爾自業界公布將重拾晶圓代工業務之后，于10月宣布已開始采用極紫外光刻（EUV）技術大規模量產Intel 4制程節點。據了解，目前，Intel 7和Intel 4已實現大規模量產；Intel 3正在按計劃推進，目標是2023年底。