近期，俄羅斯國際新聞通訊社報道，俄羅斯在開發可以替代光刻機的芯片制造工具。據悉，圣彼得堡理工大學的研究人員開發出了一種“光刻復合體”，可用于蝕刻生產無掩模芯片，這將有助于俄羅斯在微電子領域技術領域獲得主動權。

該設備綜合體包括用于無掩模納米光刻和等離子體化學蝕刻的設備，其中一種工具的成本為500萬盧布（約36.7萬元人民幣），另一種工具的成本未知。

開發人員介紹，傳統光刻技術需要使用專門的掩膜板來獲取圖像。該裝置由專業軟件控制，可實現完全自動化，隨后的另外一臺設備可直接用于形成納米結構，但也可以制作硅膜，例如用于艦載超壓傳感器。

這不是俄羅斯首次對外公布有關光刻機的消息， 2022年10月，俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理研究所就宣布朝光刻機領域展開工作，該研究所希望能開發俄羅斯首臺本土光刻機，用以生產7納米拓撲芯片。對此，業界認為，這需要數年時間才能實現。