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lpddr5x dram 文章 進入lpddr5x dram技術社區

2022半導體儲存器市場調研 半導體儲存器行業前景及現狀分析

  •   國內半導體儲存器行業市場前景及現狀如何?半導體存儲器行業是全球集成電路產業規模最大的分支:半導體行業分為集成電路、光電器件、分立器件、傳感器等子行業,根據功能的不同,集成電路又可以分為存儲器、邏輯電路、模擬電路、微處理器等細分領域。2022半導體儲存器市場調研半導體儲存器行業前景及現狀分析  國內開始布局存儲產業規模化,中國大陸的存儲器公司陸續成立,存儲產業也取得明顯的進展。在半導體國產化的大趨勢下,國內存儲器行業有望迎來新的發展和機遇。  半導體儲存器行業產業鏈下游涵蓋智能手機、平板電腦、計算機、網
  • 關鍵字: 存儲  DRAM  市場  

TrendForce:DRAM原廠降價意愿提高 第三季跌至近10%

  • 根據TrendForce最新研究顯示,盡管今年上半年的整體消費性需求快速轉弱,但先前DRAM原廠議價強勢,并未出現降價求售跡象,使得庫存壓力逐漸由買方堆棧至賣方端。在下半年旺季需求展望不明的狀態下,部分DRAM供貨商已開始有較明確的降價意圖,尤其發生在需求相對穩健的服務器領域以求去化庫存壓力,此情況將使第三季DRAM價格由原先的季跌3至8%,擴大至近10%,若后續引發原廠競相降價求售的狀況,跌幅恐超越一成。PC OEM仍處于連續性下修出貨展望,且綜觀各家DRAM庫存水位平均超過兩個月以上,除非有極大的價格
  • 關鍵字: TrendForce  DRAM  

TrendForce:第三季DRAM價格預估下跌3~8%

  • 據TrendForce研究,盡管有旺季效應和DDR5滲透率提升的支撐,第三季DRAM市場仍不敵俄烏戰事、高通膨導致消費性電子需求疲弱的負面影響,進而使得整體DRAM庫存上升,成為第三季DRAM價格下跌3~8%的主因,且不排除部分產品別如PC與智能型手機領域恐出現超過8%的跌幅。PC DRAM方面,在需求持續走弱情況下,引發PC OEMs下修整年出貨目標,同時也造成DRAM庫存快速飆升,第三季PC OEMs仍將著重在調整與去化DRAM庫存,采購力道尚難回溫。同時,由于整體DRAM產業仍處于供過于求,因此即便
  • 關鍵字: TrendForce  DRAM  

SK海力士將向英偉達供應業界首款HBM3 DRAM

  • SK海力士宣布公司開始量產 HBM3 -- 擁有當前業界最佳性能的 DRAM。擁有當前業界最佳性能的 HBM3 DRAM 內存芯片,從開發成功到量產僅用七 個月HBM3將與NVIDIA H100 Tensor Core GPU搭配,以實現加速計算(accelerated computing)SK海力士旨在進一步鞏固公司在高端 DRAM 市場的領導地位* HBM (High Bandwidth Memory,高帶寬存儲器):是由垂直堆疊在一起的 DRAM 芯片組合而成的高價值、高性能內存
  • 關鍵字: SK海力士  英偉達  HBM3  DRAM   

3D DRAM技術是DRAM的的未來嗎?

  • 5月25日,有消息傳出,華為將在VLSI Symposium 2022期間發表其與中科院微電子研究所合作開發的 3D DRAM 技術。隨著“摩爾定律”走向極限,DRAM芯片工藝提升將愈發困難。3D DRAM就成了各大存儲廠商突破DRAM工藝極限的新方案。DRAM工藝的極限目前,DRAM芯片最先進的工藝是10nm。據公開資料顯示,三星早已在2020年完成了10nm制程DRAM的出貨;美光和SK海力士也在2021年完成了10nm DRAM產品的量產。那么,10nm是DRAM工藝的極限嗎?在回答這個問題之前,我
  • 關鍵字: DRAM  3D DRAM  華為  三星  美光  制程  納米  

利基型DRAM持續擴產 華邦電 搶攻AIoT、元宇宙

  • 內存大廠華邦電日前宣布擴大利基型DDR3產出,爭取韓系DRAM廠退出后的市占率,推升營收及獲利續創新高。華邦電自行開發的20奈米DRAM制程,將于明年導入至高雄廠量產,為長遠發展奠定良好的基礎與成長動能,同時滿足5G基地臺、人工智能物聯網(AIoT)、電動車及車用電子、元宇宙等產業大趨勢強勁需求。華邦電第一季迎來利基型DRAM價格回升,SLC NAND及NOR Flash價格回穩,季度營收265.14億元為歷史次高,歸屬母公司稅后凈利年增近1.9倍達45.59億元并創下歷史新高,每股凈利1.15元優于預期
  • 關鍵字: DRAM  華邦電  AIoT  元宇宙  

三星推出512GB 內存擴展器CXL DRAM

  • 2022年5月10日 ,作為先進內存技術的廠商,三星宣布開發出三星首款512 GB 內存擴展器 (CXL,Compute Express Link) DRAM,朝CXL的商業化邁出了重要一步,CXL將在IT系統中實現更高的內存容量且更低的延遲。三星半導體512GB 內存擴展器 CXL DRAM與以往版本相比,新開發的CXL內存容量為其4倍,從而讓服務器擴展至數十TB,而系統延遲僅為其五分之一三星還將推出其開源軟件工具包的升級版本,以推動CXL內存在現有和新興IT系統中的部署自2021年5月推出三星首款配備
  • 關鍵字: 三星  內存擴展器  CXL DRAM  

第二季度DRAM跌幅估縮小

  • 根據市調預估,第二季整體DRAM平均價格跌幅約0~5%,跌幅相較上季已明顯縮小。由于買賣雙方庫存略偏高,再加上需求面如筆電、智能型手機等受近期俄烏戰事和高通膨影響,進而削弱消費者購買力道,目前僅服務器為主要支撐內存需求來源,故整體第二季DRAM仍有供過于求情形。在標準型PC DRAM方面,受俄烏戰爭影響,引發PC OEM對第二季的訂單采保守備貨策略,且可能持續影響下半年旺季訂單情形,進而下修今年的出貨目標,然而整體供給位卻仍在增長,故第二季PC DRAM價格跌幅達3~8%,且可能會進一步惡化。在服務器DR
  • 關鍵字: DRAM  集幫咨詢  

LPDDR5X標準與LPDRR5對比:帶寬增至8533Mbps

  • 2021年7月28日,JEDEC 固態技術協會于發布了關于 LPDDR5 內存芯片的最新標準,標準號 JESD209-5B。新版標準針對目前已經應用的 LPDDR5 內存提供了新的規格,提高了性能,降低了功耗以及增強了兼容性。此外,還包含下一代 LPDDR5X 內存標準。新標準表示,LPDDR5/LPDDR5X 旨在提高內存速率和效率,適用于 5G 智能手機等產品。具體來看:(1)LPDDR5X 將實現最高 8533 Mbps 的速率;(2)信號 TX/RX 發射或接收需要有更高的完整性;(3)新增 Ad
  • 關鍵字: LPDDR5  LPDDR5X  內存  

三星LPDDR5X DRAM:速度是LPDDR5的1.3倍 功耗還低了20%

  • 2021年11月,三星宣布了業內首款 LPDDR5X DRAM,可知與 LPDDR5 解決方案相比,其不僅具有 1.3 倍以上的數據傳輸速率、功耗還降低了將近 20% 。
  • 關鍵字: LPDDR5X  LPDDR5  三星  

三星LPDDR5X內存來了:比LPDDR5快約1.2倍

  • 2022年3月3日 三星半導體官方微博宣布,三星首款基于14nm的LPDDR5X內存已在高通驍龍移動平臺上驗證使用。三星表示,三星與高通公司密切合作,7.5Gbps的LPDDR5X用于驍龍移動平臺。LPDDR5X的速度比目前高端智能手機上的LPDDR5 (6.4Gbps)快約1.2倍,有望在下一代智能手機上提升超高分辨率視頻錄制性能和語音識別、圖像識別、自然語言處理等人工智能功能。此外,三星LPDDR5X內存采用先進的電路設計和動態電壓頻率縮放,功耗可降低約20%。三星半導體執行副總裁兼內存全球銷售和營銷
  • 關鍵字: LPDDR5X  LPDDR5  三星  

天璣9000首發 美光LPDDR5X內存已出樣:手機帶寬超越PC

  • 2021年11月19日,聯發科在國內發布了天璣9000處理器,除了更先進的X2 CPU、GPU、APU等架構之外,還首發支持了LPDDR5X內存,這也是獨一份,驍龍8 Gen 1支持的依然是LPDDR5內存。
  • 關鍵字: 美光  LPDDR5X  LPDDR5  

美光LPDDR5X:強大的內存性能讓一切皆有可能

  • 在從事半導體行業近30年的時間里,最讓我興奮的是見證了由于內存和存儲技術的不斷革新,用戶體驗逐漸優化的過程。作為美光移動產品事業部的負責人,我有幸親歷了美光近期的LPDDR5X DRAM新品發布。
  • 關鍵字: 美光  LPDDR5X  LPDDR5  

三星LPDDR5X DRAM已在高通驍龍移動平臺上驗證使用

  • 今日三星宣布,高通技術公司(Qualcomm Technologies, Inc.)已經驗證了三星14納米(nm) 16Gb低功耗雙倍數據速率5X (LPDDR5X) DRAM,并應用于高通技術公司的驍龍(Snapdragon?)移動平臺。自去年11月開發出三星首款基于14nm的LPDDR5X DRAM以來,三星與高通技術公司密切合作,優化7.5千兆比特每秒(Gbps)的LPDDR5X,用于驍龍移動平臺。LPDDR5X的速度比目前高端智能手機上的LPDDR5 (6.4Gbps)快約1.2倍,有
  • 關鍵字: 三星  LPDDR5X  DRAM  高通  驍龍  

微結構不均勻性(負載效應)及其對器件性能的影響:對先進DRAM工藝中有源區形狀扭曲的研究

  • 隨著晶體管尺寸縮小接近物理極限,制造變量和微負載效應正逐漸成為限制DRAM性能(和良率)的主要因素。而對于先進的DRAM,晶體管的有源區 (AA) 尺寸和形狀則是影響良率和性能的重要因素。在DRAM結構中,電容存儲單元的充放電過程直接受晶體管所控制。隨著晶體管尺寸縮小接近物理極限,制造變量和微負載效應正逐漸成為限制DRAM性能(和良率)的主要因素。而對于先進的DRAM,晶體管的有源區 (AA) 尺寸和形狀則是影響良率和性能的重要因素。在本研究中,我們將為大家呈現,如何利用SEMulator3D研究先進DR
  • 關鍵字: DRAM  微結構  
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