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海力士半導體工廠蒸鍍設備氣體外泄

作者: 時間:2011-05-25 來源:DigiTimes 收藏

  據韓國電子新聞報導,韓國半導體大廠(Hynix)位于京畿道利川的工廠發生氣體外泄事故。19日晚間約10點50分,在維修DRAM半導體產線過程中,合作廠2位員工因操作不當,使設備內殘留的液化氣體外泄。

本文引用地址:http://www.j9360.com/article/119787.htm

  外泄的液化氣體含有阿摩尼亞成分,廠內產生惡臭,正在進行作業中的員工及合作廠員工約120多人緊急送往鄰近醫院,接受治療后已平安返家,未傳出人員傷亡。本次事故對工廠生產未造成影響。

  韓國媒體23日晚間訪問海力士社長權五鉉,他表示氣體外泄雖造成工廠生產暫停等情況,但內部已馬上應變處理,目前沒有任何影響,工廠仍正常生產中。此外,他也表示,外泄的氣體雖含有阿摩尼亞成分,但對人體沒有太大傷害。發生事件當時,距離事故現場最近的兩位員工接受醫院檢查后也已無事返家,沒有人員傷亡。



關鍵詞: 海力士 蒸鍍設備

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