- 泛林集團與阿斯麥 (ASML) 和比利時微電子研究中心 (imec) 共同研發的全新干膜光刻膠技術將有助于提高EUV光刻的分辨率、生產率和良率。
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泛林 EUV 干膜光刻膠技術
- 作為全球唯一能生產EUV光刻機的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機,主要用于臺積電、三星的7nm及今年開始量產的5nm工藝,預計今年出貨35臺EUV光刻機。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結構相同,但NXE:3400C采用模塊化設計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮短到8-10小時,支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的產能也從之前的125WPH(每小時處理晶圓數)提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:
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ASML EUV
- hello,大家好,歡迎來到阿洛伊科技華為將于2月24日21:00舉行在線新品發布會。在疫情爆發期間,手機制造商選擇在網上舉行發布會。據悉,此次發布會的主題是“共同未來”。從海報上看,本次大會將涵蓋多個類別,包括折疊手機、筆記本電腦、平板電腦、智能手表、智能家居等,不過,據媒體透露,本次大會將會有一個驚喜,即將發布最新的旗艦SOC麒麟820處理器。與上一代麒麟810相比,該處理器有哪些升級?讓我們看看。麒麟820處理器將采用cortex A76架構。不采用最新的cortex a77架構的主要原因是,ARM
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麒麟820 6納米 EUV
- 告別了諾基亞、HTC、黑莓等手機,目前的智能手機陣營也就是安卓和蘋果,而智能手機儼然就是人們的第二個精神生命,手機不離手已經成為了一種現象,但是對于智能手機來說,除了軟件以外,最重要最核心的就是手機芯片了!但是在全世界來說,能夠生產高端芯片的廠商少之又少,主要還是因為納米級制程工藝的技術壁壘,誰能夠率先突破制程工藝,誰都將會在半導體芯片上拔得頭籌,對于中國來說,這一塊仍然非常的滯后,當然了如果說臺積電也是中國的話,那么中國其實還是領先的!但是畢竟臺積電一直以來是中國臺灣企業,但其實其也一直受限于美國的政策
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臺積電 EUV
- 很快,臺積電和三星的5nm工藝即將量產,與此同時,臺積電和三星的3nm工藝也在持續的研發當中。而對于5nm及以下工藝來說,都必須依靠EUV(極紫外)光刻機才能實現。而目前全球只有一家廠商能夠供應EUV光刻機,那就是荷蘭的ASML。很快,臺積電和三星的5nm工藝即將量產,與此同時,臺積電和三星的3nm工藝也在持續的研發當中。而對于5nm及以下工藝來說,都必須依靠EUV(極紫外)光刻機才能實現。而目前全球只有一家廠商能夠供應EUV光刻機,那就是荷蘭的ASML。目前ASML出貨的EUV光刻機主要是NXE:340
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3nm EUV
- 當前，有實力圍繞10nm以下先進制程較量的廠商僅剩下Intel、臺積電和三星三家。
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三星 EUV 7nm
- 根據外媒報導，已經多年蟬聯全球半導體設備龍頭的美商應材公司（Applied Materials），2019年可能將其龍頭寶座，讓給以生產半導體制造過程中不可或缺曝光機的荷蘭ASML，原因是受惠即紫外光刻設備（EUV）的市場需求大增，進一步拉抬了ASML的市占率表現。
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EUV ASML 半導體設備
- ASML近日發布2019年第3季財報。根據財報顯示，ASML在2019年第3季銷售凈額（net sales）為30億歐元，凈收入（net income）為6.27億歐元，毛利率（gross margin）43.7%。
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ASML EUV 營運
- 掌握全球唯一EUV光刻機研發、生產的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發布了2019年Q2季度財報，當季營收25.68億歐元，其中凈設備銷售額18.51億歐元，總計出貨了41臺光刻機，其中EUV光刻機7臺。
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阿斯麥 極紫外光刻 EUV
- 韓國業界傳出消息，指三星電子(Samsung Electronics)獲高通(Qualcomm)新一代應用處理器(AP)Snapdragon 865(暫稱)晶圓代工訂單。2018年臺積電(TSMC)搶走高通AP晶圓代工訂單，如今再度回到三星手上，可望挹注三星晶圓代工事業部不少業績。
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高通 三星電子 NVIDIA 臺積電 EUV Snapdragon Exynos處理器
- IT之家5月26日消息 據《數字時報》報道，臺積電首席執行官表示，該公司7nm+ EUV已開始批量生產。這是臺積電第一次、也是行業第一次量產EUV極紫外光刻技術。
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臺積電 7nm+ EUV
- 在芯片代工領域，臺積電和三星是實力最強勁的兩大巨頭。不過，最近幾年，臺積電的實力要更勝一籌，通過7nm工藝，臺積電拿到了蘋果、高通、AMD、比特大陸等多家的大訂單。而三星自家最新的Exynos 9820處理器，采用的則還是8nm工藝。今天，三星在官網上帶來了一個新消息，5nm EUV成功開發完成。這對三星而言，算是一個里程碑式的成就。三星表示，與7nm相比，5nm FinFET工藝功耗降低了20％，性能提高了10％。需要說明的是，三星的7nm工藝去年10月開始宣布并初步生產，今年年初實現量產。最近三星曝光
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三星 EUV 5nm
- 在經歷了二十多年的研發之后，芯片制造商在一項能夠大幅度提升硅片上晶體管密度的技術上壓下了重注，那就是EUV光刻。他們能夠取得成功，日本東京郊區的一家名為Lasertec小公司功不可沒。
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EUV Lasertec
- 隨著晶片功能愈趨強大，在半導體制程愈趨復雜的情況下，摩爾定律的推進已經放緩，以臺積電、三星、英特爾等三大半導體廠目前采用的浸潤式(immersion)微影及多重曝影(multi-patterning)技術來說，若要維持摩爾定律的制程推進速度，晶片成本會呈現等比級數般飆升。也因此，能夠明顯減少晶片光罩層數的極紫外光(EUV)微影技術，將可為摩爾定律延命。
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EUV 摩爾定律
euv介紹
在半導體行業，EUV一般指EUV光刻，即極紫外光刻。
極紫外光刻（英語：Extreme ultra-violet，也稱EUV或EUVL）是一種使用極紫外（EUV）波長的光刻技術。
EUV光刻采用波長為10-14納米的極紫外光作為光源，可使曝光波長一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術擴展到32nm以下的特征尺寸。
根據瑞利公式（分辨率=k1·λ/NA），這么短的波長可以提供極高 [
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