2月11日消息，據國外媒體報道，英特爾CEO歐德寧周二表示，公司將在未來2年里投資70億美元，在美建造先進的制造工廠，工廠將采用最先進的32納米制造工藝。
 
　　這也是英特爾歷史上為單一制造工藝投入的最大一筆資金，從2002年起公司在美國的研發和資本性支出上已經投入了500億美元。

　　英特爾的投資將針對位于俄勒岡、亞利桑那和新墨西哥三州的現有工廠，預計可創造7000個工作崗位。英特爾計劃利用這些投資將生產工藝轉向更先進的32納米技術，生產更高速、更小型化和低能耗的芯片。英特爾希望此舉能在x86芯片市場上保持對競爭對手的領先優勢。

　　另外，英特爾準備從2009年起提高32納米制程“Westmere”芯片的產量，并在2010年推出更多32納米芯片。