據外媒報道，目前，俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。

俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已組裝并制造了第一臺國產光刻機，作為澤廖諾格勒技術生產線的一部分，目前正在對其進行測試，該設備可確保生產350nm的芯片。什帕克還指出，到2026年將獲得130nm的國產光刻機，下一步將是開發90nm光刻機，并繼續向下邁進。

此前，俄羅斯曾表示，計劃到2026年實現65nm的芯片節點工藝，2027年實現28nm本土芯片制造，到2030年實現14nm國產芯片制造。