據寧波前灣新區管理委員會7月15日消息，近日寧波冠石半導體有限公司迎來關鍵節點，引入首臺電子束掩模版光刻機。據悉，該設備是光掩模版40nm技術節點量產及28nm技術節點研發的重點設備。

光掩模版是集成電路制造過程中光刻工藝所使用的關鍵部件，類似于相機“底片”，光線經過掩膜版后，可在晶圓表面曝光形成電路圖形。目前，我國高精度半導體光掩模版產品主要仍依賴于進口，國產化率極低。

據了解，冠石半導體主要從事45nm~28nm半導體光掩模版的規模化生產。當前，冠石半導體一期潔凈車間設計產能為月產5000片180nm~28nm集成電路掩模版。據冠石相關負責人介紹，企業正加速推進海外布局戰略，并在世界一流半導體光掩模版制造技術班底的加持下，預計今年底，企業將陸續實現為國內外中高端集成電路掩模版提供制版服務。

此次引入電子束掩模版光刻機，冠石半導體將成為國內技術能力先進的獨立光掩模版生產企業，可填補國內高階制程光掩模空白，打破國外高端光掩模版的壟斷局面，提高我國半導體光掩模產業的安全和可控性。

公開媒體此前報道，南京冠石科技股份有限公司于2023年5月16日與寧波前灣新區管理委員會簽署《投資協議書》，投資建設半導體光掩膜版制造項目。該項目實施主體為寧波冠石半導體有限公司，項目總投資約20億元，先期投資16億元，擬用地約68.8畝，建設周期計劃為60個月，主要生產45nm~28nm成熟制程的半導體光掩膜版。