芯研所9月26日消息，近日美國開發和商業化原子精密制造技術公司Zyvex Labs宣布，其推出了全球分辨率最高的光刻系統——ZyvexLitho1TM。它沒有采用EUV光刻技術，而是基于STM掃描隧道顯微鏡，使用的是電子束光刻（EBL）方式。實現了0.768nm的原子級精密圖案和亞納米級分辨率芯片的制造，遠超EVU光刻機的精度。

目前，5nm級及以下的尖端半導體制程必須采用EUV光刻機，而精度更高的2nm制程所使用的ASML新一代0.55 NA EUV光刻機，售價或將高達4億美元。但想要實現1nm以下更先進的制程，就連最新的光刻機也無法實現。ZyvexLitho1TM系統則是直接將芯片制造工藝帶到了亞納米級，或許在不久之后就將正式投入商用，相信隨著這項系統的使用，芯片產業必將迎來更大的發展。