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投資5000多萬 俄羅斯計劃研發全新EUV光刻機:ASML都沒有

作者: 時間:2022-04-02 來源:中財網 收藏

是半導體制造中的核心設備之一,EUV全球也只有公司能夠研發、生產,但它的技術限制也很多,俄羅斯計劃開發全新的EUV,使用的是X射線技術,不需要光掩模就能生產芯片。
  光刻機的架構及技術很復雜,不過決定光刻機分辨率的主要因素就是三點,分別是常數K、光源波長及物鏡的數值孔徑,波長越短,分辨率就越高,現在的EUV光刻機使用的是極紫外光EUV,波長13.5nm,可以用于制造7nm及以下的先進工藝工藝。
  俄羅斯莫斯科電子技術學院 (MIET)現在就接下了貿工部的6.7億盧布資金(約合5100萬元人民幣),也要開發制造芯片的光刻機,而且號稱要達到EUV級別,但技術原理完全不同,他們研發的是基于同步加速器和/或等離子體源”的無掩模X射線光刻機。
  X射線光刻機使用的是X射線,波長介于0.01nm到10nm之間,比EUV極紫外光還要短,因此光刻分辨率要高很多。
  此外,X射線光刻機相比現在的EUV光刻機還有一個優勢,那就是不需要光掩模版,可以直寫光刻,這也節省了一大筆費用。
  正因為有這么兩個特點,俄羅斯要研發的X射線光刻機優勢很大,甚至被當地的媒體宣傳為全球都沒有的光刻機,也做不到。
  從相關資料來看,全球確實沒有能達到規模量產的X射線光刻機,不過這種技術并不是現在才有,不僅美國、歐洲研究過,國內也有科研機構做了X射線光刻機,只是生產芯片的效率跟的光刻機不能比的,只適合特定場景。
  不過俄羅斯在X射線及等離子之類的技術上有深厚的基礎,倒是可以期待下他們在新型光刻機上能走多遠。

本文引用地址:http://www.j9360.com/article/202204/432734.htm


關鍵詞: 光刻機 ASML

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