據《連線》雜志報道，在美國康涅狄格州郊區的一間潔凈室中，ASML的工程師們正在為一臺單臺造價1.5億美元的新機器制造關鍵部件，該部件是新一代EUV系統的組成部分，會采用一些新技術來最大限度地減少其使用的光波長，包括縮小芯片的特征尺寸并提升性能。

ASML的工程師正在裝配系統組件（圖片來自ASML）

      要知道，當前的EUV機器已經像一輛公共汽車那么大，包含10萬個零部件和兩公里長的電纜，運輸這些組件需要40個貨運集裝箱、三架貨機和20輛卡車，能夠買得起這種設備的公司只有少數幾家，大部分供貨給了臺積電、三星和英特爾。至于新一代EUV光刻機，則可以讓科技產業在未來十年繼續保持高速發展。

      在康涅狄格州的工作室內，可以看到一塊巨大的鋁被雕刻成一個框架，最終形成一個面罩或“標線”，以納米精度移動，反射一束極紫外光。同時，新機器還引入了一種新方法在芯片上產生更小的特征——更大的數值孔徑，允許光以不同的角度穿過光學器件來提高成像的分辨率，這需要更大的鏡面，以及新的軟件和硬件精確控制組件。

      據了解，新機器的成品組件預計在2021年底運往荷蘭Veldhoven，之后在2022年初添加到首臺下一代EUV機器的原型機。使用新系統制造的第一批芯片可能由英特爾制造，英特爾曾表示，到2023年其會獲得其中的一臺設備。

只有少數公司買得起ASML的巨型機器（圖片來自ASML）

      通過使用非凡的工程縮小用于制造芯片的光波長，EUV可以延續技術的領先性，從而推動智能手機、云計算、AI、生物技術、機器人等領域的快速發展?！澳柖傻南稣摫豢浯罅恕！甭槭±砉W院研究新型晶體管架構的教授Jesús del Alamo認為，“我認為它會持續很長一段時間?！?/p>