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三星新建5nm晶圓廠:先進EUV技術 2021年投產

作者: 時間:2020-05-24 來源:快科技 收藏

隨著時間邁入2020年中,以臺積電和為代表的芯片半導體也從7nm逐步向進發,實際上麒麟1020和蘋果A14芯片就是基于臺積電工藝,表現相較7nm將會更上一層樓。

本文引用地址:http://www.j9360.com/article/202005/413419.htm

很明顯在7nm時代,是落后于臺積電的,不過這家巨頭似乎想在時代彎道超車,近日據媒體報道,宣布將于漢城南部的平澤市建造全新的5nm晶圓廠。

該工廠是三星在韓國國內的第六條晶圓代工產線,將應用先進的極紫外光微影(ExtremeUltravioletlithography,)制程技術,拿7nm工藝對比,三星5nm工藝的性能提升10%,功耗降低了20%,邏輯面積效率提升25%。

三星表示這座工廠將于2021年下半年投產,產品主要應用于5G網絡和高效能運算方面。

三星的野心不止于此,在規劃中的3nm時代,三星果斷拋棄了FinFET,押寶GAA環繞柵極晶體管技術,試圖反超臺積電。



關鍵詞: 三星 5nm EUV

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