隨著先進制程的不斷推進，從14nm、10nm到將來的7nm、3nm，在生產過程中產生的微粒也越來越小，怎樣去找到這些極微小的微粒將是未來半導體制造商面臨的一個非常大的挑戰。近日，領先特殊材料供應商Entegris參加了在Semicon Taiwan，同時發布了幾款全新產品，其全球銷售副總裁謝俊安也與臺灣媒體進行了交流。

　　謝俊安首先介紹了Entegris的三個主要事業部，分別為電子材料部分，主要提供尖端氣體、沉積的解決方案以及一些化學清洗類產品;第二個是微污染控制，主要的產品為用于水、氣體以及化學方面的濾芯濾材;另外一個部分是主管運輸方面的部門，可提供一些晶圓、化學品以及在客戶工廠端的誰、氣體和化學方面的運輸解決方案。各個事業部可以單獨提供服務給客戶，也可以根據客戶需要，提供綜合的在解決方案。謝俊安表示：“隨著制程技術的不斷復雜，污染控制面臨的挑戰也越來越嚴峻。” 他列舉了一個有趣的例子，找出現在的制程中的微粒就如在整個臺灣找出兩個1元硬幣。而在半導體進行制造的過程中，每個環節都有可能產生污染，而Entegris的解決方案可以覆蓋各個環節。如客戶在制造氣體過程中，Entegris可以提供解決方案，而在這些氣體運輸的過程中，這些強酸強堿可能會侵蝕塑膠品，可能會產生微污染， Entegris可以提供綜合的解決方案給到客戶，覆蓋半導體生態圈的各個部分，確保每個環節的安全性。

　　近期，Entegris剛剛還擴建了其臺灣的技術中心，加入了全新的微污染物分析與技術開發能力。謝俊安表示：“Entegris原本在臺灣就有一個化學CAP中心和一個濾芯濾材中心，此次新的技術中心就是結合了原有的兩個中心，并進行擴建，可以達到很好的綜合效果。“此次擴展共投資了850萬美元，用于擴展三個方面：一是1000級的無塵室;二是擴大5倍的實驗室空間;三是進行設施裝修和設備升級。謝俊安表示：”新的技術中心將Entegris在液體過濾、特殊用化學品和CMP領域的核心技術整合，提供更完整的分析服務與技術開發解決方案，滿足隨著制程推進已經器件不斷小型化所帶來的制造挑戰。“

　　在Semicon Taiwan期間，Entegris同時發布了3款最新產品，它們分別為Integra? Plus WS(堰式閥)高流量流體管理閥門、Oktolex? 薄膜技術以及GateKeeper? GPU(氣體純化裝置)腐蝕性氣體純化器。其中Integra? Plus WS針對半導體制程應用中的腐蝕性化學品所設計，采用創新、單件且黏著劑的隔膜設計，其流體效能比競爭對手適用于超純度大量化學品和CMP研磨液應用的閥高出70%。而Oktolex? 薄膜技術可應用于先進的使用點光微影技術，它可針對各種化學品的需求，強化各種薄膜原本的攔截機制，過濾重要的光化學污染物。最后的GateKeeper? GPU腐蝕性氣體純化器采用了Entegris的高階媒介，可同時去除18種不同其體內的濕氣并捕捉揮發性金屬微粒，有助于提升晶圓產能。