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硅基GaN擔當下一階段LED成本下降的重任

作者: 時間:2011-03-29 來源:GGLED 收藏

  近日,韓國尖端技術研究所(SAIT) 已經選擇Veeco的TurboDisc  K465i MOCVD作為其硅基氮化鎵功率器件研究的設備。

本文引用地址:http://www.j9360.com/article/118155.htm

  對此,Veeco的化合物半導體業務執行副總裁William J. Miller表示:“Veeco被選中作為SAIT研究硅氮化鎵,并商品化這項技術用于大批量制造氮化鎵功率器件,我們認為是巨大的戰略研發上的勝利。”

  硅基氮化鎵成為下一階段降低LED成本的利器

  3月25日,臺積電旗下創投VTAF公司投資的美國Bridgelux(普瑞光電)正式對外宣布,該公司運用「氮化鎵上硅」(GaN-On-Silicon)的LED技術,已達成每瓦135流明之效能。這代表Bridgelux在硅半導體基板LED技術方面,已成為業界第1家達到商品化等級效能的廠商。

  根據Bridgelux研究,氮化鎵上硅LED的效能,足以媲美12至24個月前推出的頂級藍寶石基板LED。預估未來2至3年內,應用于商業市場的氮化鎵上硅LED產品,就能上市銷售。

  同時Bridgelux還認為,若能在直徑更大、成本較低廉的硅晶圓上生成氮化鎵,并采用與現代半導體生產線相容的制程,則LED磊晶產品之成本,可望將較現有制程有效降低75%。



關鍵詞: 三星 硅襯底

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