3nm 文章 進入3nm技術(shù)社區(qū)
面向3nm及以下工藝,ASML新一代EUV光刻機曝光
- 很快,臺積電和三星的5nm工藝即將量產(chǎn),與此同時,臺積電和三星的3nm工藝也在持續(xù)的研發(fā)當中。而對于5nm及以下工藝來說,都必須依靠EUV(極紫外)光刻機才能實現(xiàn)。而目前全球只有一家廠商能夠供應(yīng)EUV光刻機,那就是荷蘭的ASML。很快,臺積電和三星的5nm工藝即將量產(chǎn),與此同時,臺積電和三星的3nm工藝也在持續(xù)的研發(fā)當中。而對于5nm及以下工藝來說,都必須依靠EUV(極紫外)光刻機才能實現(xiàn)。而目前全球只有一家廠商能夠供應(yīng)EUV光刻機,那就是荷蘭的ASML。目前ASML出貨的EUV光刻機主要是NXE:340
- 關(guān)鍵字: 3nm EUV
Intel最新制程路線圖曝光:10nm+++得到證實、2029年上馬1.4nm

- 原文流傳年的幻燈片并非出自Intel官方,而是荷蘭光刻機巨頭ASML在Intel原有幻燈片基礎(chǔ)上自行修改的,5nm、3nm、2nm、1.4nm規(guī)劃均不是出自Intel官方,不代表Intel官方路線圖。Intel官方原始幻燈片如下:在IEDM(IEEE國際電子設(shè)備會議上),有合作伙伴披露了一張?zhí)柗Q是Intel 9月份展示的制造工藝路線圖,14nm之后的節(jié)點一覽無余,甚至推進到了1.4nm。讓我們依照時間順序來看——目前,10nm已經(jīng)投產(chǎn),7nm處于開發(fā)階段,5nm處于技術(shù)指標定義階段,3nm處于探索、先導階
- 關(guān)鍵字: 英特爾 10nm 7nm 5nm 3nm
三星明年完成3nm GAA工藝開發(fā) 性能大漲35%

- 盡管日本嚴格管制半導體材料多少都會影響三星的芯片、面板研發(fā)、生產(chǎn),但是上周三星依然在日本舉行了“三星晶圓代工論壇”SFF會議,公布了旗下新一代工藝的進展,其中3nm工藝明年就完成開發(fā)了。三星在10nm、7nm及5nm節(jié)點的進度都會比臺積電要晚一些,導致臺積電幾乎包攬了目前的7nm芯片訂單,三星只搶到IBM、NVIDIA及高通部分訂單。不過三星已經(jīng)把目標放在了未來的3nm工藝上,預(yù)計2021年量產(chǎn)。在3nm節(jié)點,三星將從FinFET晶體管轉(zhuǎn)向GAA環(huán)繞柵極晶體管工藝,其中3nm工藝使用的是第一代GAA晶體管
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臺積電:3nm工藝進展順利 已有客戶參與

- 如今在半導體工藝上,臺積電一直十分激進,7nm EUV工藝已經(jīng)量產(chǎn),5nm馬上就來,3nm也不遠了。臺積電CEO兼聯(lián)席主席蔡力行(C.C. Wei)在投資者與分析師會議上透露,臺積電的N3 3nm工藝技術(shù)研發(fā)非常順利,已經(jīng)有早期客戶參與進來,與臺積電一起進行技術(shù)定義,3nm將在未來進一步深化臺積電的領(lǐng)導地位。目前,3nm工藝仍在早期研發(fā)階段,臺積電也沒有給出任何技術(shù)細節(jié),以及性能、功耗指標,比如相比5nm工藝能提升多少,只是說3nm將是一個全新的工藝節(jié)點,而不是5nm的改進版。臺積電只是說,已經(jīng)評估了3n
- 關(guān)鍵字: 臺積電 3nm
臺積電計劃2022年量產(chǎn)3nm芯片

- 臺積電在8月14日宣布,公司董事會已批準了一項約45億美元的資本預(yù)算。未來將會使用該預(yù)算來修建新的晶圓廠,而現(xiàn)在中國臺灣媒體報道稱,臺積電計劃2020年開始建造3nm制程的晶圓廠,希望能夠在2022年實現(xiàn)3nm制程芯片的量產(chǎn)?! 「鶕?jù)臺灣《經(jīng)濟日報》的報道,臺灣相關(guān)部門通過了「臺南科學園區(qū)二期基地開發(fā)暨原一期基地變更計劃環(huán)差案」,這項議案主要是為了臺積電全新的晶圓制造廠而打造。 據(jù)悉,臺積電計劃2020年開始建造最新的3nm制程的晶圓廠,同時最快可以在2022年實現(xiàn)對于3nm制程芯片的量產(chǎn)。目前臺積
- 關(guān)鍵字: 臺積電,3nm,芯片
aveni S.A. 運用創(chuàng)新電鍍化學,將銅互連擴展至5nm及以下節(jié)點以實現(xiàn)BEOL集成

- 為2D互連和3D硅穿孔封裝提供顛覆性濕沉積技術(shù)與化學材料的開發(fā)商與生產(chǎn)商aveni S.A.今日宣布,其已獲得成果可有力支持在先進互連的后段制程中,在5nm及以下技術(shù)節(jié)點可繼續(xù)使用銅?! 钢荡算~集成20周年之際,我們的研究結(jié)果證實了IBM研究員Dan Edelstein在近期IEEE Nanotechnology Symposium上的主題演講中所表達的意見:『銅集成可持續(xù)使用』。」aveni執(zhí)行長Bruno Morel指出?! ∮捎谄骷獫M足(和創(chuàng)
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3nm介紹
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