集成電路(IC)制造潔凈廠房是滿足半導體制造工藝需求的潔凈室，該潔凈室對環境潔凈度、溫濕度、振動、ESD(靜電控制)、AMC(氣態分子級污染物)控制等都有一定的要求。相對于其他工業潔凈室，集成電路制造潔凈室有面積大、潔凈等級高、溫濕度控制精度高等特點。

　　FFU系統已成主流方案

　　根據潔凈室空氣循環特點可以將潔凈室分為三種類型：循環空調機配合高效送風口系統、循環風機配合濕式密封系統和FFU(風機過濾單元)循環系統。

　　第一種形式在小規模低等級要求的潔凈室設計中被廣泛應用，對于大面積高等級的潔凈室則存在運行成本過高、占用空間過大等缺點。

　　第二種形式的設計可以滿足集成電路制造潔凈室大面積高等級的要求，但運行成本較高，并且潔凈室風速、風量調節困難，系統升級改造困難，因此操作靈活性很低。

　　第三種的FFU循環系統不僅節省運行空間、潔凈度安全性高、運行成本低，而且操作靈活性很高，可以在不影響生產的情況下隨時進行系統升級和調整，這些都能很好地滿足半導體制造的需求，因此在半導體制造業FFU循環系統逐漸成為最主要的潔凈設計方案。

　　FFU循環系統的特點是：整個潔凈室由靜壓層、工藝層、工藝輔助層和回風通道組成，由FFU提供循環空氣的動力，將新風、循環風混合后通過超高效過濾器送入工藝層和工藝輔助層，靜壓層相對于工藝層為負壓。此外，還有生產輔助區為集成電路制造廠務設備區域，包括電力供應、氣體和化學品供應、超純水供應等。

　　AMC控制標準更加嚴格

　　集成電路制造對潔凈室環境的控制有較為嚴格的要求。不同的工藝制程對潔凈度的要求也各不相同，例如光刻要求在1級的微環境下，而化學機械研磨則只要求1000級的環境即可。

　　采用FFU系統的潔凈室一般通過FFU的分布率來決定該潔凈室的潔凈等級，潔凈室的正壓通過新風量來控制，潔凈室溫濕度的控制是通過循環空氣冷卻系統(RCU)和新風空調系統(MAU)完成。

　　ESD也是半導體制造環境控制的重要內容，靜電釋放可能對產品和生產設備造成損害，還可能引起硅片表面塵粒吸附，影響產品的良率。靜電消除要在潔凈室設計上進行總體考慮，除了設備接地(包括潔凈墻板和高架地板，辦公設備等)外，還要采用防靜電墻板、高架地板，人員要求穿著防靜電的潔凈服、潔凈鞋。對存在ESD危害風險的設備和生產區域應安裝靜電消除器。