全球電子設計創新企業Cadence設計系統公司(NASDAQ: CDNS)今天宣布面向Common Platform™技術的45納米參考流程將于2008年7月面向大眾化推出。Cadence®與Common Platform技術公司包擴IBM、特許半導體制造公司和三星聯合開發RTL-to-GDSII 45納米流程，滿足高級節點設計需要。該參考流程基于對應Common Power Format（CPF）的Cadence低功耗解決方案，而且還包含來自Cadence的關鍵可制造性設計（Design For Manufacturing ,DFM）技術。那些使用通用平臺45納米工藝設計大規模量產型消費電子產品、通信和移動電子設備的客戶將會大幅節省功耗、提高良品率和加快上市時間。

　　該參考流程使用45納米ARM®Physical IP低功耗庫，讓設計師可以使用不同的CPF文件和單個黃金RTL進行設計摸索和physical prototyping，實現低功耗架構的優化。它采用Cadence低功耗解決方案中的高級功率管理功能——包括power shut off prototyping, power domain-aware placement, clock tree synthesis and routing, multi-mode和multi-corner 分析與優化, 從而提供更高的生產效率，以及為高級設計極大地降低功耗。

　　“消費者對于便攜式產品的需求正在加速，更長,更可靠的連接性成為必要。這就對優化功率管理機制的設計提出了更高的要求，”ARM物理IP部門市場部副總裁Tom Lantzsch說。“與Cadence合作，ARM可以全力幫助我們共同的客戶，讓他們開發出業界領先的嵌入式產品。作為本次合作的一部分，我們將會開始提供帶有ARM Physical IP庫的CPF視窗。帶有Power Management Kit的45納米ARM Physical IP面向Common Platform技術，這是我們與Cadence合作發展基于CPF的參考流程的再一次進步。”

　　作為這種45納米參考流程的一部分，Cadence還提供一種晶圓廠認證的、基于模型的DFM分析和實現技術的綜合套件，實現精確的硅片分析和物理設計優化。這些技術提供了對重要制造變化的精確的硅片建模和優化，可以被用于在設計實現時提高性能和物理良品率結果。在高級工藝節點上，傳統設計流程無法再提供精確的可預測性，迫使設計師過于對其設計進行保護，或者冒著出現制造問題的風險。通過在實現流程中對關鍵制造工藝進行建模并提前優化，設計師可以減少總項目周期，并提高對芯片依照原計劃順利運作的信心。

　　這種45納米參考流程是基于 Cadence Encounter®數字IC設計平臺，用于注重DFM的預防、偵測與優化。它已經在Common Platform中得以演示，將導致光刻中良品率受限制(yield-limiting)的功能將可以通過使用Cadence Litho Physical Analyzer被迅速而精確地識別。這些基于模型的DFM結果被用于驅動Cadence SoC Encounter™ RTL-to-GDSII 系統，用于預防和重視制造性的設計閉合，而Cadence Chip Optimizer用于增量型基于空間的互連優化以及最終的可制造性優化。Cadence QRC Extractor提供了物理、制造和電氣域之間的基本建模鏈接。DFM效應可以被提取，而時序影響可以被反推到物理實現階段，進行精確的、基于模型的時序優化。

　　通過基于Common Platform的Cadence45納米參考流程，讓設計師能夠重新實現制造的可預測性，這可以實現更高質量的芯片，可以更快實現量產化。

　　“低功耗設計與可制造性設計是客戶采用Common Platform 45納米工藝技術時面臨的主要問題，”IBM的Common Platform副總裁Mark Ireland說。“為了解決這些問題，Common Platform的公司與Cadence的工程師合作，提供這種45納米參考流程，從而得出了這種創新的、注重良品率的解決方案，并且使用CPF完美地實現其功耗意圖。”

　　“這次Cadence與Common Platform之間的合作提供了為45納米芯片準備的參考流程，尋找可預測的設計流程的工程師團隊可以快速采用，實現更高的芯片質量，”Cadence公司Digital IC 以及Power Forward部門全球副總裁徐季平(Chi-Ping Hsu)說。“Cadence低功耗解決方案、DFM技術以及Common Platform 45納米工藝技術的結合，為設計師提供了一個完整的解決方案，解決低功耗和高級工藝節點的復雜性與相互依賴的需要。”

　　Cadence 45納米參考流程中的高級節點功能提供了“設計即所得”（ what you design is what you get, WYDIWYG）建模、高級低功耗技術和關鍵制造差異的優化，可以被用于改進設計階段的成果。這有助于實現更快、功耗更低、更為精確的芯片。

　　供應情況

　　這種45納米高級低功耗、良品率優化的參考流程將于7月推出，只要將請求通過電子郵件發送到 common_platform_45LP@cadence.com. 該參考流程工具包包含一個參考設計、資料和用于運行參考流程的腳本。