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鎧俠與閃迪合作研發出332層NAND閃存

作者: 時間:2025-02-24 來源:SEMI 收藏

官網獲悉,日前, 公司和閃迪公司宣布率先推出了最先進的技術,以4.8Gb/s的接口速度、卓越的能效和更高的密度樹立了行業標桿。

本文引用地址:http://www.j9360.com/article/202502/467211.htm

據悉,新閃存采用CBA雙晶圓鍵合技術,分別制造CMOS控制電路、存儲陣列,然后鍵合在一起,類似長江存儲的Xtacking晶棧架構。3D堆疊層數達到空前的332層,對比第8代的218層增加了多達38%。

兩家公司的新一代較目前量產的第八代產品(BiCS FLASH? generation 8)實現了33%的接口速度提升,達到4.8Gb/s。此外,該技術也顯著提升了數據輸入/輸出的能效,輸入功耗降低10%,輸出功耗降低34%,成功實現了高性能與低功耗的最優平衡。兩家公司預展第十代(BiCS FLASH? generation 10)技術時介紹,通過將存儲層數增至332層并優化晶圓平面布局以提高平面密度,使位密度提升了59%。

鎧俠首席技術官宮島英史表示:“隨著人工智能技術的普及,預計產生的數據量將顯著增加,同時現代數據中心對能效提升的需求也在增長。鎧俠深信,這項新技術將實現更大容量、更高速度和更低功耗的產品,包括用于未來存儲解決方案的SSD產品,并為人工智能的發展奠定基礎。”



關鍵詞: 鎧俠 3D閃存 NAND

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