納米尺度芯片平坦性工藝仿真工具
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研究65/45/40/28納米銅互連ECP/CMP及32/28納米HKMG CMP工藝，提出了耦合設計版圖與CMP機理的新型高效CMP建模技術，開發了多節點銅互連平坦性疊層仿真工具和28納米高k金屬柵DFM解決方案，可動態模擬ECP/CMP、ILD0 CVD/CMP和Al PVD/CMP工藝演進過程，快速實現平坦性工藝偏差的提取和校正。該仿真工具通過了CMOS實測硅片數據驗證，仿真精度和速度達到國際同類工具先進水平，可應用于全芯片平坦性工藝的檢測分析和設計優化。
本文引用地址：http://www.j9360.com/article/202204/433148.htm
CMP工藝仿真
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