光刻膠又叫光致抗蝕劑，制造一塊芯片往往要對硅片進行數(shù)十次光刻，除了用到光刻機，還要添加光刻膠作為抗腐蝕涂層。這是一種高頻剛需的材料，光刻膠生產(chǎn)技術(shù)較為復雜，品種規(guī)格較多，在電子工業(yè)集成電路的制造中，對所使用光刻膠有嚴格的要求。

說到材料就進入了今天的主題，我們不得不接受一個殘酷的現(xiàn)實，中國大陸不僅造不出光刻機、光刻膠領(lǐng)域也被卡脖子了。

今年五月份，日本對中國光刻膠提出了斷供，直接導致國內(nèi)多家晶圓廠將會面臨大缺貨的處境，按照工藝的先進程度，光刻膠依次分為G線、I線、KRFARFUV5種，日本此次擬對中國大陸斷供的是KRF光刻膠，ARF光刻膠的制造難度是最高的，是14納米七納米芯片制造過程中不可或缺的原材料。

不過，這也是目前國內(nèi)能夠大規(guī)模量產(chǎn)的最先進的一種，但自給率也才不過5%，ARFUV則完全依賴進口。

其實，早在5月30日，南大光電就已經(jīng)發(fā)布公告稱，公司自主研發(fā)的ARF光刻膠產(chǎn)品通過客戶認證，具備55納米工藝要求，南大光電成立于2000年12月，是以南京大學國家863計劃研究成果作為技術(shù)支持的中國高純金屬有機化合物歐元的產(chǎn)業(yè)化基地。

目前除了南大光電，國內(nèi)還有不少企業(yè)都加入了研發(fā)KRF級別以上光刻膠的隊伍中來。

比如徐州博康彤程新材，上海新陽半導體行業(yè)想要做到真正強大，不僅需要突破，制造端的技術(shù)限制，更要在原材料的供給上，不要拉后腿，只有這樣才能做到在各種危機面前不受他人牽制，能夠獨立自主地研發(fā)下去。

所以發(fā)展半導體材料也是重中之重，半導體設(shè)備是物理的世界材料，是化學的天堂，我們在為光刻輔助材料的國產(chǎn)化突破欣喜之余，也應該清醒地認識到中國與日本在材料領(lǐng)域的巨大差距，取長補短，積極進取，

接下來讓我們看一下是哪10家光刻膠企業(yè)吧！

一、晶瑞電材：

公司作為國內(nèi)高新技術(shù)企業(yè)，在微電子化學品的研究開發(fā)與生產(chǎn)當中一直處于行業(yè)領(lǐng)先位置，其核心產(chǎn)品主要包括光刻膠、功能性材料等。

二、新萊應材：

公司的核心產(chǎn)品均能應用于光刻膠設(shè)備當中，其客戶群體當中就含有光刻膠設(shè)備制造商。

三、芯源微：

產(chǎn)品包括光刻工序涂膠顯影設(shè)備和單片式濕法設(shè)備。

四、亞威股份：

公司與關(guān)聯(lián)方一同出資打造威邁芯材，對韓國WIMAS已經(jīng)完成了收購計劃，該韓國企業(yè)主要從事的是半導體化合物的生產(chǎn)開發(fā)與銷售。

五、華懋科技：

公司旗下持股公司徐州搏康目前為國內(nèi)重點量產(chǎn)高端光刻膠的企業(yè)，在EUV光刻膠領(lǐng)域當中處于國際水平的上游層次。

六、彤程新材：

公司旗下子公司北京科華微電子作為國內(nèi)僅有的一家擁有荷蘭曝光機的中外合資企業(yè)，在高檔光刻膠自主研發(fā)以及量產(chǎn)能力當中也屬于國家高新技術(shù)企業(yè)。

七、蘇大維格：

公司作為領(lǐng)先行業(yè)的微納結(jié)構(gòu)生產(chǎn)供應商，已經(jīng)實現(xiàn)自主研發(fā)出光刻機設(shè)備，并成立了微納光學的研發(fā)平臺，在各類型的產(chǎn)品中為客戶提供不同的設(shè)計與服務。

八、芯碁微裝：

公司專業(yè)從事以微納直寫光刻為技術(shù)核心的直接成像設(shè)備及直寫光刻設(shè)備的研發(fā)、制造、銷售以及相應的維保服務。

九、南大光電：

公司主要核心產(chǎn)品為ArF光刻膠產(chǎn)品，不僅得到了客戶的使用認證，還是國內(nèi)第一只通過驗證的國產(chǎn)ArF光刻膠產(chǎn)品。