“工欲善其事，必先利其器。”集成電路產業的發展離不開裝備制造業的支撐，而裝備業的發展水平也是衡量一個國家集成電路產業總體水平的重要標準。近年來，我國集成電路裝備業取得了長足的進步，12英寸設備在多個工序實現國產化。但由于8英寸、12英寸集成電路生產線在我國仍有很大的發展空間，這也給國外的二手設備提供了用武之地，同時，也給從事設備翻新的企業提供了發展機遇。

　　12英寸國產設備進展顯著

　　●多種核心裝備實現國產化

　　●12英寸65納米是下階段重點

　　一條標準的集成電路生產線需要300～400臺工藝設備，一般認為，其核心裝備包括光刻機、刻蝕機、離子注入機、CVD(化學氣相淀積)設備、PVD(物理氣相淀積)設備和高溫爐;隨著光刻精度進入90納米節點，銅制程設備也進入核心裝備的行列;此外，用于硅片表面處理的清洗機也是非常重要的裝備。

　　“在集成電路生產設備中，刻蝕機的重要性僅次于光刻機。國內裝備制造企業在柵刻蝕和介質刻蝕兩個領域都已經取得了突破。”02專項總體專家組組長、中科院微電子所所長葉甜春告訴記者，“目前，面向12英寸集成電路生產線的國產刻蝕機已通過了芯片制造廠的考核認證，用于8英寸生產線的刻蝕機已經進入市場。”

　　摻雜也是集成電路生產的重要工序，隨著技術的進步，用離子注入進行摻雜的工藝已經逐漸取代了早期的擴散工藝。近幾年，國內裝備制造企業在該領域也取得了顯著進步。據葉甜春介紹，目前國產離子注入機已能滿足8英寸生產線的要求，12英寸離子注入機也已進入整機調試階段。“除了刻蝕機和離子注入機之外，用于12英寸集成電路生產的國產高溫爐也已經送進芯片制造廠進行工藝認證考核。”葉甜春說。

　　針對清洗工序，中國裝備制造企業也有不錯的表現。2009年，盛美半導體設備(上海)有限公司已經研制出適用于45納米、12英寸集成電路生產的單片清洗設備，并送到國際知名芯片制造企業進行生產線測試。該公司工藝工程師賈照偉在接受記者采訪時表示：“隨著集成電路精度的提升，對硅片表面顆粒物和硅片均勻性的要求越來越高，傳統上用于批量清洗硅片的槽式清洗機有逐漸被單片清洗機取代的趨勢。”

　　記者從《國家科技重大專項“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”2009年項目指南》中了解到，02專項把2012年之前集成電路裝備的研發目標定位在65納米節點，其中，PVD、銅互連、快速熱退火、勻膠顯影以及相關檢測設備將成為研發重點。葉甜春表示：“上海華力微電子有限公司承擔的‘909工程升級改造’項目將采用65納米工藝，02專項的實施也將滿足該項目的需求。”

　　二手設備瞄準8英寸市場

　　●8英寸二手設備期待進入中國市場

　　●二手設備廠家尋求整合

　　近年來，國外的集成電路產品生產越來越多地由8英寸生產線轉至12英寸生產線，而在國際金融危機的沖擊下，很多8英寸生產線也提前停產。據曾經管理過上華、宏力和中緯等多家IC代工企業的業內知名專家蔡南雄統計，在全球范圍內，目前已經下線或即將下線的8英寸設備數量超過1萬臺，一大批從事二手設備翻新和銷售的廠商也把目光投向中國市場。美國亞洲技術公司中國區總代葉野在接受記者采訪時表示，目前中國的集成電路生產線以6英寸和6英寸以下為主，8英寸生產線數量還不多，而二手設備的價格通常不到新設備價格的1/10，因此對投資者非常有吸引力。