- 摘要: 發展數字經濟需要海量芯片支持，芯片制作需要半導體產業全力協同。受美國禁令影響，目前全球“缺芯”問題持續發酵，解決半導體生產設備“卡脖子”刻不容緩。 作為登上廣東“專精特新”新品發布會(以下簡稱 ... 發展數字經濟需要海量芯片支持，芯片制作需要半導體產業全力協同。受美國禁令影響，目前全球“缺芯”問題持續發酵，解決半導體生產設備“卡脖子”刻不容緩?！ ∽鳛榈巧蠌V東“專精特新”新品發布會(以下簡稱“新品發布會”)首場發布會的20家企業之一，珠海寶豐堂電子科技有限公司(以下簡稱“寶豐堂”)靠著
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刻蝕 等離子
- 中國上海，2018年3月13日電——中微半導體設備（上海）有限公司（以下簡稱“中微”）在本周舉辦的SEMICON China期間正式發布了第一代電感耦合等離子體刻蝕設備Primo nanova?，用于大批量生產存儲芯片和邏輯芯片的前道工序。該設備采用了中微具有自主知識產權的電感耦合等離子體刻蝕技術和許多創新的功能，以幫助客戶達到芯片制造工藝的關鍵指標，例如關鍵尺寸（CD）刻蝕的精準度、均勻性和重復性等。其創新的設計包括：完全對稱的反應腔，超高的分子泵抽速；獨特的低電容耦合線圈設計和多區細分溫控靜電吸盤（E
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中微 半導體 刻蝕
- 應用將持續驅動芯片業的發展。摩爾定律將繼續演進，但形式正發生變化，從注重特征尺寸的縮小，正轉變到同時關注材料和結構創新。預計中國半導體市場10年內翻番，將帶來半導體制造的興盛。為了迎接10nm以下的挑戰，應用材料公司近期推出了三款新產品。
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晶圓 材料工程 設備 刻蝕 電子束 201612
- 今年IC China(一年一度在上海舉辦的業內知名半導體展會和論壇)展會期間，先進的設備制造商 -- 中微半導體設備(上海)有限公司(以下簡稱“中微公司”)，將于本周三在上海世博展覽館，就其設計創新、技術領先的新一代刻蝕設備產品舉辦新聞發布會。
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中微公司 刻蝕
- Schmid集團的選擇性發射極技術通過自身出色的運行情況證明其為市場上最有效的工藝技術。在競爭更高效率的戰爭中，更多的電池生產商依賴于濕化學工藝;由Schmid濕法機器訂單越來越多可見一斑。無論是擴展生產線還是升級現有生產線，Schmid的選擇性發射極技術繼續其成功之道。Schmid選擇性發射極刻蝕機最新訂單是八月中旬，來自一家中國的主要生產商。
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Schmid 刻蝕
- “工欲善其事，必先利其器。”集成電路產業的發展離不開裝備制造業的支撐，而裝備業的發展水平也是衡量一個國家集成電路產業總體水平的重要標準。近年來，我國集成電路裝備業取得了長足的進步，12英寸設備在多個工序實現國產化。但由于8英寸、12英寸集成電路生產線在我國仍有很大的發展空間，這也給國外的二手設備提供了用武之地，同時，也給從事設備翻新的企業提供了發展機遇。
12英寸國產設備進展顯著
●多種核心裝備實現國產化
●12英寸65納米是下階段重點
一條標準的集成電
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半導體設備 芯片制造 光刻 刻蝕
- 半導體工業中的等離子加工對于氟橡膠真空密封是一個富有挑戰性的環境。在高溫和等離子條件下實現的密封能力...
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氟橡膠 刻蝕
- 近日，應用材料公司推出Centura® Carina™ Etch系統用于世界上最先進晶體管的刻蝕。運用創新的高溫技術，它能提供45納米及更小技術節點上采用高K介電常數/金屬柵極(HK/MG)的邏輯和存儲器件工藝擴展所必需的材料刻蝕輪廓，是目前唯一具有上述能力并可以用于生產的解決方案。應用材料公司的Carina技術具有獨一無二的表現，它能達到毫不妥協的關鍵刻蝕參數要求：平坦垂直，側邊輪廓不含任何硅材料凹陷，同時沒有任何副產品殘留物。 應用材料公司資深副總裁、硅系統業務
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測試 測量 應用材料 晶體管 刻蝕 IC 制造制程
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