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日本半導體設備,大跌23%

發布人:旺材芯片 時間:2023-07-10 來源:工程師 發布文章

來源:內容由半導體芯聞(ID:MooreNEWS)綜合自日經等,謝謝


7月6日,日本半導體制造裝置協會(SEAJ)發布預測稱,2023年度日本生產的半導體設備銷售額將比上年度下滑23%,降至3.0201萬億日元。2023年1月時,該協會曾表示銷售額將同比減少5%,但由于半導體需求低迷狀態長期持續,此次大幅下調了預期。


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新冠疫情下宅家需求帶來的半導體特需在2022年下半年告一段落之后,生產設備投資陷入停滯。原因是全球性通貨膨脹導致消費趨冷,作為半導體主要用途的個人電腦和智能手機用產品的出貨減少。日本半導體制造裝置協會會長河合利樹指出:「存儲半導體的需求復蘇速度比年初的預想要緩慢」。


與創下歷史最高銷售額紀錄的2022年度(3.9222萬億日元)相比,情況突然發生變化,2023年度將時隔3年首次低于上年度業績。日本半導體制造裝置協會認為,2024年度投資將再次復蘇,銷售額將同比增加30%。預計2025年度將同比增長10%,達到4.3187萬億日元,首次突破4萬億日元大關。


關于2024年度以后對需求復蘇起到重要拉動作用的因素,日本半導體制造裝置協會列舉了生成式人工智能(AI)用數據中心的擴大、純電動汽車(EV)、虛擬現實(VR)終端等產品的普及。協會同時表示,隨著高速通信標準「5G」等的普及,數據流通量將增加,從中長期來看,半導體相關設備投資將繼續增長。


半導體設備,日本不行了?


2020年,COVID-19在全球范圍內的傳播引發了特殊需求,2021年至2022年,全球半導體市場和制造設備市場快速擴張。預計2022年半導體市場規模將達到5741億美元,設備市場規模將達到1076億美元,均創歷史新高(圖1 )。


但由于2022年新冠特殊需求結束以及半導體衰退,2023年半導體市場將減少約10%至5151億美元,設備市場也將減少約15%至91.2美元億。據說到2024年,經濟將恢復到2022年創下歷史新高的水平。


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圖1 全球半導體市場與制造設備市場


順便說一下,我去年曾經報道日本前端工藝設備行業正處于危機邊緣,市場份額迅速下降。因此,在本文中,我想討論一下日本前端設備世界份額的最新趨勢。先說結論,日本前道工藝設備全球份額從2021年的26%下降2個百分點至24%。也就是說,日本前端設備份額的下降趨勢并未停止,而且形勢依然嚴峻。


在這樣的情況下,看似已經觸底的光刻設備的市場份額卻在上升,尤其是佳能對i-line和KrF業務的關注,使得設備數量的市場份額有所增加。這在日漸衰落的日本前處理設備產業中,可以說是一個亮點。


首先我們來看看各種前處理設備的出貨金額。


各類前處理設備出貨額

圖2顯示了各種前處理設備出貨額的變化。檢驗設備是外觀檢驗和缺陷檢驗的總和。另外,清洗設備的出貨量按單片式和批量式的總和計算。


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圖2 各類前道工藝設備出貨額變化


到2022年,干法刻蝕設備將達到202億美元,成為首個單臺設備出貨量超過200億美元的設備。其次是檢查設備,出貨額為 178 億美元,超過光刻設備的 167 億美元,成為第二大出貨量。此外,CVD設備以112億美元排名第四。


這里,由于檢查設備中的視覺檢查設備價值135億美元,因此2022年將超過100億美元的前道工藝設備有四類:干蝕刻設備、曝光設備、視覺檢查設備、CVD設備。


所有前端工藝設備的出貨量在2000年IT泡沫期間達到頂峰。因此,我為每個設備繪制了一個以 2000 年出貨量標準化的圖表(圖 3)。從圖中可以看出,預處理設備可以分為四種類型。以下,將2000年的出貨量歸一化后的值稱為“增長率”。


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圖3 2000年標準化的各種前端工藝設備的出貨值

(增長率)


“第一”類是干法刻蝕設備,到 2022 年增長了 4.6 倍。2015年以來,干法刻蝕設備不僅在出貨量上,而且在增長率上都超越了其他設備。


“第二”是2022年增長率約為3或以上的設備。具體來看,按照增長率由高到低排列,檢驗設備為3.7,曝光設備和清洗設備均為3.1,包括立式擴散爐在內的熱處理設備為2.9。其中,檢查設備已超過光刻設備,成為出貨量第二大的設備,具有極高的增長潛力。另一方面,熱處理設備增速較2021年的3.2下降0.3個百分點。


此外,屬于第一類和第二類的設備組,2010年至2013年增長率均在1以上,導致此后的高增長。


“第三”是CVD設備,2022年增速為2.6。CVD設備增速超過1是在2016年之后。這很大程度上受到NAND閃存(NAND)結構從2D到3D變化的影響。這是因為,隨著3D NAND層數增加到48、64、92/96、112/128等,每一代需要的CVD設備增加1.5倍。


最后的“第四”是一組增長率為 2 或更低的設備。從2017年到2020年,這些設備的增長率為1或以上。也就是說,這是一組無法輕易超越2000巔峰的裝備。具體來說,按照增長率由高到低排列,PVD設備為2.0,CD-SEM為1.9,CMP設備為1.7,涂布機/顯影機為1.6。


接下來我們看看各公司各前處理設備的市場占有率。


各種前處理設備各公司的市場份額

圖4顯示了各類前端工藝設備按企業劃分的市場份額,歐洲、美國、日本的份額以及2022年的市場規模。一眼就能看出,前端工藝設備寡頭壟斷正在持續推進。


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圖 4 按公司劃分的市場份額、按地區劃分的份額以及各種前端流程的市場規模


例如,作為“1強+其他”,曝光設備ASML(91.8%)、鍍膜機開發商Tokyo Electron(TEL,88.8%)、濺射設備Applied Materials(AMAT,84.7%)、目視檢查設備包括KLA(57.2%) )和缺陷檢測設備KLA(73.4%)。


排名前2+的其他包括熱處理設備TEL(58.5%)和國際電氣(34.8%)、CMP設備AMAT(70.4%)和Ebara Corporation(24.2%)、批量清洗設備SCREEN(51.4%)和TEL (28.7%)、掩模檢測設備KLA(54.5%)和Lasertech(36.4%)、CD-SEM日立高新技術(65.5%)和AMAT(34.5%)。


另一方面,有些設備正在與三個或更多公司競爭。Lam Research (Lam, 49.4%)、TEL (22.4%)、AMAT (15.8%) 干式蝕刻設備、AMAT (37.9%)、Lam (32.5%)、ASMI (14.4%) CVD 設備、SCREEN (36.7%) 、TEL (27.9%)、Lam (17.4%) 和 SEMES (11.0%)。


歐美日前端設備市場占有率

我們看一下上圖4中歐洲、美國、日本的地區份額。ASML所在的歐洲在光刻設備方面擁有91.8%的壟斷地位。美國以AMAT、Lam、KLA為主,擁有干蝕刻設備(65.2%)、CVD設備(66.2%)、濺射設備(87.9%)、CMP設備(70.4%)、目視檢查設備(69.6%).%)、缺陷檢測設備(90.3%)、掩模檢測設備(59.9%)。


 另一方面,日本在涂布機/顯影機(92.0%)、熱處理設備(94.7%)、單片清洗設備(64.6%)、批量清洗設備(80.1%)、CD-SEM(65.5%)等方面擁有世界第一的市場份額。


但日本占有率較高的設備市場規模并不是很大。另一方面,歐美占據前端設備全球份額,市場規模超過100億美元。202億美元的干蝕刻設備是最大市場,Lam和AMAT合計占65.2%;167億美元的曝光設備,ASML占91.8%;135億美元的視覺檢測設備,KLA和AMAT占69.6%;112億美元的CVD設備AMAT和Lam占66.2%。


也就是說,歐美的AMAT、ASML、Lam、KLA都專注于市場規模較大的設備,壟斷了全球市場份額。似乎有一種基于營銷的自上而下的策略。


那么,所有前端流程中的區域份額是多少?


日本前處理設備份額持續下降

圖5顯示了預處理設備的區域份額。2022年,美國為49.0%,日本為24.0%,歐洲為21.3%,韓國為2.1%,中國為0.4%。


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圖5 各地區前端設備市場份額

(截至2022年)


自2020年以來,美國的份額有所增加。另一方面,直到2010年左右,以35-40%左右的份額與美國爭奪第一的日本,此后份額大幅下降,雖然在2018年看似有所回升,但一直處于停滯狀態。2019年以來形勢嚴峻。2022 年比 2021 年下降 2 個百分點。


為什么日本前處理設備的份額下降?

為了找出原因,我們繪制了2011年和2020年至2022年各種前端工藝設備的市場份額圖(圖6)。從該圖中可以看出,只有掩模版檢測設備的市場份額顯著增加,但幾乎所有前端工藝設備的市場份額從2011年到2020-2022年都有所下降。


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圖6 日本前端設備市場份額

(2011年、2021-2022年)


尤其是曝光設備、干法刻蝕設備、CVD設備、濺射設備、批量式清洗設備、CD-SEM等市場份額出現較大下滑。我只能用悲慘的境遇來形容。我有一種危機感,如果我們不阻止每種設備市場份額的下降,那就太晚了。


那么,日本前端設備產業還有一線希望嗎?在這里,我注意到日本光刻設備的份額從2021年的5.4%上升到2022年的8.2%。這里可能有一束光。


曝光裝置似乎已經跌入谷底,但是……

20世紀90年代,曾經有一段時間,尼康和佳能壟斷了曝光設備出貨量合計市場份額的80%左右。但被2000年左右崛起的ASML推翻,日本市場份額跌至不足10%注1)。


然而,按公司劃分的曝光設備出貨量份額圖表顯示,日本公司表現良好(圖7 )。三大光刻設備廠商中,ASML在出貨量上壟斷了90%以上,但在出貨量上的份額卻在60%左右。


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圖7 各公司光刻設備出貨量占比

(截至2022年)


與此同時,尼康在 2011 年的出貨量份額為 23.7%,到 2022 年下降至 6.8%。然而,另一家日本公司佳能的出貨量份額穩步上升,2022年達到31.5%。這大約是ASML的一半。換句話說,可以說,從光刻設備的出貨量來看,佳能表現不錯。


那么佳能正在與哪些光刻工具競爭呢?


佳能專注于i-line和KrF

圖8顯示了2022年各類曝光設備的出貨量。ASML出貨了40臺EUV(極紫外)曝光設備(準確地說,出貨了54臺,驗收了40臺)。至于ArF浸入式,ASML出貨81臺,尼康出貨4臺。至于ArF dry,ASML出貨了28臺,尼康出貨了4臺。在KrF中,ASML出貨151臺,尼康7臺,佳能51臺。在 i 系列中,佳能出貨了 125 臺,而 ASML 為 45 臺,尼康為 23 臺。


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圖8 按曝光設備類型劃分的公司出貨量

(2022年)


ASML在EUV、ArF浸入式和ArF干式方面具有壟斷地位。也就是說,先進曝光設備由ASML主導。另一方面,與尖端曝光設備無關的佳能,KrF 的 ASML 出貨量有三分之一,i-line 的出貨量大約是 ASML 的三倍。也就是說,佳能的策略非常明確,可以說是在ASML不太重視的i-line業務上競爭。


在三大曝光設備制造商中,尼康的業務最為三心二意。在領先優勢上無法與ASML競爭,并且在KrF和i-line上輸給了佳能。


臺積電、三星、英特爾等建設最先進的工廠時,不僅引入了EUV,還均勻引入了ArF浸沒式、ArF干式、KrF和i-line。最先進的曝光設備EUV和將于2023年下半年開始開發的High NA備受關注,但KrF和i-line都是制造尖端半導體所必需的。佳能似乎也注意到了這一點。


事實證明,佳能在曝光設備的出貨量方面表現不錯,但日本前端設備的形勢依然嚴峻。我應該怎么辦?


設備廠商別無選擇,只能自己努力

作者認為,日本大部分前端工藝設備的份額正在下降,并且日本整體前端工藝設備份額的下降仍在持續。換句話說,這意味著日本前端設備廠商的競爭力正在下降。不得不說,形勢十分嚴峻。在這種情況下,設備廠商別無選擇。首要政策應該是讓強者變得更強。?!皬姷臇|西”是制造設備和材料。


然而,日本政府尚未拿出加強設備和材料制造商的政策。相反,他們正在實施以Rapidus為中心發放2萬億日元補貼的毫無意義的政策,無論怎么想都是不可能實現的。而國外廠商為了補貼,也紛紛向日本聚集,補貼的糖讓螞蟻蜂擁而至(圖9 )


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圖9 螞蟻(半導體企業等)蜂擁而至

日本2萬億日元補貼


“自助者,天助之”。我希望日本設備制造商認真思考如何生存,例如制定類似于佳能的戰略。我們希望一年后,即2024年,當進行與本文相同的分析時,將會有許多設備制造商正在增加其市場份額。


-End-


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關鍵詞: 日本半導體

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