GaN如何改變半導體的未來?
來源:半導體芯聞內容編譯自techradar,謝謝。

全球半導體短缺正在推遲從冰箱和微波爐到游戲機和智能手機的所有產品的生產。專家表示,該行業可能需要幾個月的時間才能恢復,但實際上短缺正在永遠改變消費電子產品。
該行業幾十年來一直依賴硅,但芯片短缺正在幫助電子設備更環保、更高效、更小。越來越多的公司開始轉向氮化鎵 (GaN),因為它比硅芯片更容易、更快地生產,還有其他好處。
TechRadar Pro采訪了Navitas半導體公司的企業營銷和投資者關系副總裁斯蒂芬·奧利弗,以了解短缺如何影響消費電子產品,并將行業從硅轉移。Navitas為Anker、Aukey、Belkin、Dell、Hyper、聯想、OPPO、RAVPower、Verizon等數十家公司提供GaN芯片。
Navitas 就 GaN 電源市場的一些行業趨勢回答了這些問題:
什么是 GaN,為什么它如此重要?
由于帶隙決定了材料可以承受的電場,氮化鎵的更寬帶隙使得能夠開發具有非常短或窄耗盡區的半導體,從而產生具有非常高載流子密度的器件結構。通過更小的晶體管和更短的電流路徑,實現了超低電阻和電容,使速度提高了100倍。
最重要的是,GaN 技術可以以比傳統硅小得多的尺寸處理更大的電場,同時提供顯著更快的開關速度。此外,GaN 技術可以在比硅基技術更高的最高溫度下運行。
GaN 的重要性與日俱增,因為它能夠在廣泛的應用中提供顯著改進的性能,同時與傳統的硅技術相比,它減少了提供該性能所需的能量和物理空間。在硅作為功率轉換平臺已達到其物理極限的某些應用中,氮化鎵技術變得至關重要,而在其他應用中,效率、開關速度、尺寸和高溫操作的優勢結合在一起,使GaN越來越有吸引力。
隨著全球能源需求的增加,轉向GaN技術將有助于滿足需求,同時將碳排放量保持在最低水平。事實上,氮化鎵的設計和集成已被證明可以交付下一代功率半導體,其碳足跡比舊的、速度較慢的硅芯片低十倍。為了進一步支持氮化鎵的情況,據估計,全球Si-to-GaN數據中心的升級將減少30-40%的能源損失,這意味著到2030年將節省超過100萬億瓦特的能源和1.25億噸的二氧化碳排放。
鎵是如何制成的?
鎵的價格是多少?
GaN在電子產品中的用途是什么?
在手機和筆記本電腦中,GSM 和 Wi-Fi 信號使用 GaN RF 設備進行傳輸和接收,而為這些設備供電的充電器和適配器越來越多地采用 GaN。事實上,目前最大的功率 GaN 市場是移動快速充電,其中 GaN 功率 IC 可以使適配器的充電速度提高三倍,而適配器的尺寸和重量只有基于硅的慢速設計的一半。更重要的是,對于單輸出充電器,GaN 零售推出價格約為之前同類最佳硅充電器的一半,而多輸出充電器則低三倍。
氮化鎵功率半導體也被部署在數據中心服務器上。隨著數據中心流量的加速,硅高效處理電力的能力遇到了“物理材料”的障礙。因此,老式、緩慢的硅芯片被高速的氮化鎵集成電路所取代。
數據中心硬件的整合、新的 HVDC 架構方法以及經過驗證的量產、高度集成的 GaN 功率 IC 的可靠性能夠顯著提高效率。因此,部署 GaN 代表了數據中心行業朝著碳“凈零”目標邁出的又一步。
在汽車行業,氮化鎵正成為混合動力和電動汽車中功率轉換和電池充電的首選技術?;?GaN 的電源產品也越來越多地出現在太陽能裝置使用的逆變器以及電機驅動和其他工業應用的電源轉換方案中。
為什么 GaN 不受當前芯片短缺的影響?
另一方面,GaN 的交貨時間非??欤恍?12 周,備用產能迅速增加,而某些硅器件需要 52 周以上。GaN 的生產效率比硅更高,制造工藝更靈活,因此 GaN 不會像硅那樣受到影響。
GaN會成為硅的替代品嗎?
硅 (Si) 的帶隙為 1.1 eV,而 GaN 的帶隙為 3.4 eV。由于 WBG 材料允許高電場,耗盡區可以非常短或窄,因此器件結構可以具有更高的載流子密度并且可以非常密集地封裝。
例如,一個典型的 650 V 橫向 GaN 晶體管可以支持超過 800 V 并且具有 10-20 μm 或大約 40-80 V/μm 的漏極漂移區。這大大高于硅的理論極限,約為 20 V/μm。然而,它仍然遠遠低于約 300 V/μm 的帶隙限制,為未來橫向 GaN 器件的世代改進留下了很大的空間。
在器件級方面,從歸一化導通電阻 (RDS(ON)) 和柵極電荷 (QG) 的乘積中得出的品質因數可能比硅好 5 倍到 20 倍,具體取決于實現方式。通過促進更小的晶體管和更短的電流路徑,實現了超低電阻和電容,并且開關速度快了一百倍。
為了充分利用 GaN 功率 IC 的能力,電路的其余部分也必須能夠在更高的頻率下有效運行。近年來,控制 IC 被引入以將開關頻率從 65-100 kHz 提高到 1 MHz+,并且正在開發新的控制器。微控制器和數字信號處理器 (DSP) 也可用于實現當今的軟開關電路拓撲,同時針對 1-2 MHz 范圍優化的各種磁性材料現已上市。
GaN功率ic在半橋拓撲(如有源箝位反激式、圖騰柱PFC和LLC)中結合了頻率、密度和效率優勢。通過從硬開關拓撲到軟開關拓撲的改變,一次場效應晶體管的一般損耗方程可以最小化,從而在更高的頻率下提高效率。
GaN 使用 250-350 nm CMOS 設備進行加工,用于功率處理的特征尺寸相對較大。CPU、GPU 使用約 1V 的硅,并使用低于 10 納米的工藝設備來獲得非常精細的特征尺寸以進行數字處理。因此,最佳的方法是使用 GaN 進行“功率轉換”,使用硅進行“數據處理”。
GaN 的未來會怎樣?
是什么推動了充電容量的快速增長?
此外,全球需要更環保的能源。與硅系統相比,使用 GaN 功率 IC 的高效、高速應用更小、更輕、使用更少的材料和更少的能源。每個出廠的清潔、綠色 GaN 功率 IC 可節省 4 kg 二氧化碳。GaN 可以節省高達 2.6 噸/年的二氧化碳排放量——相當于 650 座燃煤發電站的排放量
有人認為快速充電可能會損壞電池,如今這種說法有多正確?
我們能否看到這種技術出現在大容量電源仍然是常態的 PC 和筆記本電腦上?
更快甚至準瞬時充電的極限在哪里,還有哪些障礙?
會在某個時候把它推廣到汽車上嗎?或其他需要快速充電的產品?
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