最新 EUV 設備的銷售情況對 ASML 的市值產生了明顯影響。
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EUV ASML
日前，日本三井化學宣布將在其巖國大竹工廠設立碳納米管 (CNT) 薄膜生產線，開始量產半導體最尖端光刻機的零部件產品（保護半導體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產品）。據悉，此種CNT薄膜可以實現92%以上的高EUV透射率和超過1kW曝光輸出功率的光阻能力。三井化學預期年產能力為5000張，生產線預計于2025年12月完工，可為ASML將推出的下一代高數值孔徑、高輸出EUV光刻機提供支持。
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光刻機 納米管薄膜 ASML
6月16日消息，ASML去年底向Intel交付了全球第一臺High NA EUV極紫外光刻機，同時正在研究更強大的Hyper NA EUV光刻機，預計可將半導體工藝推進到0.2nm左右，也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻機孔徑數值只有0.33，對應產品命名NXE系列，包括已有的3400B/C、3600D、3800E，以及未來的4000F、4200G、4X00。該系列預計到2025年可以量產2nm，再往后就得加入多重曝光，預計到2027年能實現1.4nm的量產。High NA光刻機升級到了
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ASML 光刻機 高NA EUV 0.2nm
IT之家 6 月 12 日消息，光刻機巨頭 ASML 公司 6 月 11 日在社交媒體發文，悼念 ASML 創始人之一維姆?特魯斯特（Wim Troost）離世。另據《埃因霍溫日報》，Wim 于上周五（6 月 8 日）上午逝世，享年 98 歲。ASML 稱，“Wim Troost 去世了。Wim 是我們的創始元老之一，也是 1987 年至 1990 年期間的 CEO，那時 ASML 正努力爭取其第一個客戶。退休后，Wim 一直是 ASML 和高科技產業的真正大使。他激勵了一代又一代的后人。我們感
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ASML 維姆?特魯斯特
快科技6月7日消息，近日，ASML公司CEO公開表示，美國嚴厲的芯片管控規定，只會倒逼中國廠商進步更快。ASML CEO表示，多年來，公司都不用擔心設備的去向會受到政治限制，但突然之間，這卻變成了全世界最重要的話題之一。過去一段時間，美國一直在向荷蘭施壓，以阻止中國獲得關鍵的半導體技術。去年，荷蘭政府宣布了新的半導體設備出口管制措施，主要針對先進制程的芯片制造技術，阿斯麥首當其沖。根據ASML今年1月1日發布的聲明，荷蘭政府撤銷的是2023年頒發的NXT:2050i和NXT:2100i光刻系統的出口許可證
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美國芯片管控 ASML 光刻機
ASML首席財務官達森（Roger Dassen）表示，EUV技術路線發展受歐美限制，且光刻機已接近技術極限，此一技術路線前景不明。積極尋求突破的中國廠商是持續投入資源突破現有限制進行技術跟隨？還是將資源另辟蹊徑尋找新的技術路徑？將面臨艱難的抉擇。 據《芯智訊》報導，臺積電已經訂購了High NA EUV（高數值孔徑極紫外光）光刻機，ASML與臺積電的商業談判即將結束，預計在第2季度或第3季度開始獲得大量 2nm芯片制造相關設備訂單。ASML預測其設備的市場需求有望一路走強至2026年，這主要是受益于各國
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ASML EUV 光刻機
6月6日消息，據外媒報道稱，ASML將在今年向臺積電交付旗下最先進的光刻機，單臺造價達3.8億美元。報道中提到，ASML首席財務官Roger Dassen在最近的一次電話會議上告訴分析師，公司兩大客戶臺積電和英特爾將在今年年底前獲得所謂的高數值孔徑（高NA）極紫外（EUV）光刻系統。英特爾此前已經訂購了最新的高NA EUV設備，第一臺設備已于12月底運往俄勒岡州的一家工廠。目前尚不清楚ASML最大的EUV客戶臺積電何時會收到設備。據悉，這些機器每臺造價3.5億歐元（3.8億美元），重量相當于兩架空中客車A
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ASML 光刻機 高NA EUV
6月6日消息，荷蘭光刻機制造商ASML今年將向臺積電交付其最新款光刻機。據公司發言人莫尼克·莫爾斯（Monique Mols）透露，首席財務官羅杰·達森（Roger Dassen）在近期的分析師電話會議中表示，包括臺積電和英特爾在內的ASML兩大客戶都將在今年年底前拿到高數值孔徑極紫外線（high-NA EUV）光刻機。英特爾已經下單購買了這款最新的光刻機，并于去年12月底將第一臺機器運至其位于俄勒岡州的工廠。目前尚不清楚臺積電何時會收到這些設備。臺積電代表表示，公司一直與供應商保持密切合作，但拒絕對此事
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ASML 臺積電 光刻機 英特爾 半導體
自ASML官網獲悉，6月3日，比利時微電子研究中心（imec）與阿斯麥（ASML）宣布在荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven）開設聯合High-NA EUV光刻實驗室（High NA EUV Lithography Lab），由ASML和imec共同運營。聲明中稱，經過多年的構建和集成，該實驗室已準備好為領先的邏輯和存儲芯片制造商以及先進材料和設備供應商提供第一臺原型高數值孔徑EUV掃描儀（TWINSCAN EXE：5000）以及周圍的處理和計量工具。據悉，該聯合實驗室的開放是High-NA EUV大批量生
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阿斯麥 ASML EUV
5月26日，臺積電舉辦“2024年技術論壇臺北站”的活動，臺積電CEO魏哲家罕見的沒有出席，原因是其秘密前往荷蘭訪問位于埃因霍溫的ASML總部，以及位于德國迪琴根的工業激光專業公司TRUMPF。ASML CEO Christophe Fouquet和其激光光源設備供應商TRUMPF CEO Nicola Leibinger-Kammüller近日通過社交媒體透露了魏哲家秘密出訪的行蹤。Christophe Fouquet表示他們向魏哲家介紹了最新的技術和新產品，包括High-NA EUV設備將如何實現未來
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臺積電 ASML High-NA EUV 光刻機
臺積電晶圓代工事業遙遙領先，但高層顯然一點也沒有掉以輕心。據韓媒報導，臺積電總裁魏哲家23日沒有出席在臺北舉行臺積電2024年術論壇，是因為他已經前往歐洲秘密造訪艾司摩爾（ASML）荷蘭總部以及德國工業雷射大廠「創浦」（TRUMPF）。美國芯片大廠英特爾沖刺晶圓代工事業，目前已成為ASML首臺最新型「High-NA EUV」（高數值孔徑極紫外光微影系統）的買家。臺積電高層原本表示，臺積電A16先進制程節點并不一定需要這部機器，原因是價格太貴了。但據南韓媒體BusinessKorea報導，臺積電總裁魏哲家這
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臺積電 ASML 機臺
4月上旬，全球光刻機龍頭企業ASML發布了其最新一代極紫外線(EUV)光刻設備Twinscan NXE:3800E，該工具投影透鏡擁有0.33的數值孔徑，旨在滿足未來幾年對于尖端技術芯片的制造需求，包括3nm、2nm等小尺寸節點。ASML還計劃進一步推出另一代低數值孔徑(EUV)掃描儀Twinscan NXE:4000F，預計將于2026年左右發布。近日，據外媒消息，ASML截至2025上半年的高數值孔徑EUV（High-NA EUV）設備訂單由英特爾全部包攬，據悉，英特爾在宣布重新進入芯片代工業務時搶先
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ASML 半導體設備 EUV光刻機
IT之家 4 月 19 日消息，英特爾今日宣布其已在位于美國俄勒岡州希爾斯伯勒的 Fab D1X 研發晶圓廠完成世界首臺商用 High NA（0.55NA） EUV 光刻機的組裝工作，目前已進入光學系統校準階段。▲ 圖源英特爾新聞稿這臺光刻機型號 TWINSCAN EXE:5000，為 ASML 的首代 High NA EUV 光刻機，價值約 3.5 億美元（IT之家備注：當前約 25.38 億元人民幣）。就在不久前 ASML 宣布其在荷蘭埃因霍溫總部的另一臺 High NA EUV 光刻機成功
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英特爾 ASML 光刻機
IT之家 4 月 18 日消息，荷蘭半導體設備制造商阿斯麥（ASML）近日向一家未披露名稱的公司交付了其第二臺高數值孔徑 (NA) 極紫外 (EUV) 光刻機。這臺高端光刻機旨在制造比當前低 NA EUV 設備所能制造的更高密度的芯片。據路透社報道，第二臺高端光刻機的出貨意味著這一最新技術正逐漸被采用。然而，ASML 對買家身份諱莫如深，只能猜測其身份，路透社指出英特爾、臺積電和三星都是潛在客戶。事實上，英特爾已經購買了首臺高數值孔徑 EUV 光刻機，用于其即將推出的 14A 制程節點。正如 A
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ASML 光刻機
4月18日消息，ASML公開表示，將繼續為中國大陸廠商提供設備維修服務。此前有消息稱，美國計劃向荷蘭施壓，試圖阻止ASML在中國提供部分設備的維修服務。在業績電話會上，ASML首席執行官溫寧克回應稱，“目前沒有什么可以阻止我們為在中國大陸安裝的設備提供服務。”光刻機是制造芯片的關鍵設備，中國大陸是ASML的第二大市場。因此，這種限制可能對中國的晶圓制造商產生重大影響，特別是對于維護產線穩定運行所必需的光刻機核心部件的供應和維護。之前外界擔心，受限的光刻機主要是NXT:2000i及更先進的機型，而其他未受限
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