1 月 1 日，ASML 在官網發布聲明稱，其 NXT:2050i 和 NXT:2100i 光刻系統的出口許可證已被荷蘭政府部分撤銷，影響了少數中國大陸客戶。ASML 稱，公司在最近與美國政府的討論中，進一步明確了美國出口管制法規的范圍和影響。ASML 表示，預計目前出口許可證的撤銷或最新的美國出口管制限制不會對 2023 年的財務前景產生重大影響，該公司全面承諾遵守所有適用的法律法規，包括運營所在國家的出口管制法規。今年 7 月，據媒體報道，荷蘭出口管制規則禁止 ASML 在未經政府批準的情況下為受控設
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ASML
TSMC 不急于采用ASML的High-NA EUV進行大規模生產。本周，英特爾開始收到其第一臺ASML的0.55數值孔徑（High-NA）極紫外（EUV）光刻工具，它將用于學習如何使用這項技術，然后在未來幾年內將這些機器用于18A后的生產節點。相比之下，據中國Renaissance和SemiAnalysis的分析師表示，TSMC并不急于在不久的將來采用High-NA EUV，該公司可能要在2030年或更晚才會加入這一陣營。“與英特爾在轉向GAA（計劃在[20A]插入之后）后不久即開始使用High-NA
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半導體 臺積電，ASML
1月2日，全球光刻機龍頭ASML在官網發布聲明稱，荷蘭政府最近撤銷了此前頒發給其2023年發貨NXT:2050i和NXT:2100i光刻機的部分出口許可證，這將對ASML在中國內地的個別客戶產生影響。在聲明中，ASML表示：“在新的出口管制條例下，今年（指2023年）年底前ASML仍能履行已簽訂的合同，發運這些光刻設備。客戶也已知悉出口管制條例所帶來的限制，即自2024年1月1日起，ASML將基本不會獲得向中國客戶發運這些設備的出口許可證。”預計此次出口許可證撤銷及最新的美國出口管制限制不會對公司2023
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ASML 光刻機 DUV EUV
近日光刻機巨頭ASML發布公告稱，去年2型DUV光刻機已獲準的出口許可證突然遭到撤銷，不過，中國大陸客戶預付購買DUV光刻機所積壓訂單基本都已完成交付。 據ASML指出，2023年NXT：2050i、NXT：2100i光刻系統的出貨許可證突然被撤銷，不過這沒有太多可以擔心的地方，因為2023年ASML基本已交付了中國大陸客戶預付的DUV積壓訂單，至于2023年之后是否能繼續出口DUV光刻，在此之前本就無法確定。《快科技》報導說，事實上2023年ASML一直都在向中國客戶供應光刻機，其中就包含了NXT:20
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DUV 光刻機 ASML
半導體設備制造商ASML表示，荷蘭政府禁止其向中國出口部分工具。ASML表示，荷蘭政府最近部分撤銷了其NXT：2050i和NXT：2100i光刻系統在2023年裝運的許可證。在撤銷船舶許可證之前，美國政府在10月份加強了對中國先進半導體和芯片制造工具的出口管制，并在此前的規定基礎上進行了進一步收緊。荷蘭公司ASML制造了制造世界上最先進芯片所需的最重要機器之一。美國的芯片限制使包括ASML在內的公司爭先恐后地弄清楚這些規則在實踐中的含義。ASML公司該公司表示，荷蘭政府禁止其制造最先進半導體的關鍵機器向中
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ASML DUV EUV
1月2日消息，日前，荷蘭光刻機巨頭ASML在其官網發布聲明，稱部分光刻機出口許可證被撤銷。根據聲明，荷蘭政府最近部分撤銷了2023年NXT：2050i、NXT：2100i光刻系統的出貨許可證，影響了中國大陸的一小部分客戶。ASML預計，目前撤銷出口許可證或最新的美國出口管制限制不會對2023年財務前景產生重大影響。ASML還稱，在最近與美國政府的討論中，ASML進一步澄清了美國出口管制法規的范圍和影響。美國去年10月17日公布的出口管制新規，對用于一些先進生產設施的某些次關鍵DUV浸沒光刻系統施加了限制。
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光刻機 ASML
12月21日，荷蘭光刻機巨頭ASML通過社交媒體宣布，其首套高數值孔徑極紫外（High-NA EUV）光刻機正從荷蘭Veldhoven總部開始裝車發貨，將向英特爾進行交付。數值孔徑（NA）是光刻機光學系統的重要指標，直接決定了光刻的實際分辨率和最高能達到的工藝節點。
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英特爾 2nm 光刻機 EUV ASML 臺積電
IT之家 12 月 22 日消息，ASML 公司近日通過官方 X（推特）賬號發布推文，宣布已經向英特爾交付首臺高數值孔徑光刻設備。IT之家此前報道，ASML 研制的高數值孔徑光刻設備主要用于生產 2nm 工藝半導體芯片，數值孔徑（NA）光學性能從 0.33 提高到 0.55。ASML 明年規劃產能僅有 10 臺，而英特爾已經預訂了其中 6 臺，不過 ASML 計劃在未來幾年內將此設備產能提高到每年 20 臺。ASML 新的高數值孔徑 EUV 系統涉及一種全新的工具，具有 0.55 數值孔徑的鏡頭
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ASML 光刻機 英特爾
周二，荷蘭科技巨頭ASML和三星（Samsung）簽署了一項價值約7億歐元的協議，將在韓國建設一家半導體研究廠。與此同時，韓國總統尹錫悅（Yoon Suk Yeol）結束了這次以科技為重點的訪問的第一天。尹錫悅是第一位到訪ASML高度安全的“無塵室”的外國領導人，這次到訪荷蘭的目的是在這兩個全球半導體大國之間結成“芯片聯盟”。他參觀了ASML的城市規模設施，該公司制造先進的機器來制造半導體芯片，為從智能手機到汽車的一切提供動力。ASML和三星后來同意“未來共同”投資該設施，該設施將“使用下一代EUV（極紫
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三星 ASML EUV
●? ?ASML?聯席總裁?Peter Wennink?和?Martin van den Brink?將于?2024?年?4?月?24?日榮休●? ?Jim Koonmen?將被任命為首席客戶官，加入管理委員會近日，阿斯麥（ASML）監事會宣布，擬任命現任首席商務官兼管理委員會成員?Christophe Fouquet?擔任公司
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阿斯麥 ASML
美國祭出半導體禁令打壓中國大陸先進制程發展，盡管買不到ASML用于先進技術的7納米、3納米微影設備，但也激勵大陸加速發展成熟制程領域。ASML中國區總裁沈波表示，將協助中國的成熟制程做到全世界非常具有競爭力的水平，這是一個值得努力的方向。每日經濟新聞報導，對于中國半導體未來該往哪個發展方向，沈波指出，ASML自己看來，先進制程芯片從數量上講相對較小，絕大多數是成熟制程芯片，對于中國來講，這么大終端市場需求推動下，把成熟制程芯片做到非常具有競爭力的水平，對咱們這個產業來講是最高效的，可以達到一個事半功倍的效
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7納米 ASML
日本尼康（Nikon）為了重振業績，將大幅轉變半導體光刻機業務的戰略。目前全球市占率排名第3的尼康將采用不違反對華出口管制的成熟技術設備，在2024年投放新產品，通過尋求逆勢開拓中國市場，以實現卷土重來。《日經中文網》報導說，尼康預測2023財年（截至2024年3月）的合并凈利潤將同比減少22%，降至350億日元（約合臺幣72億元）。半導體設備相關的精密機械業務以及相機影像業務是2大支柱，其中高檔微單相機銷售強勁，但精密機械業務低迷影響獲利。報導說，光刻機是半導體制造的核心，三菱UFJ摩根士丹利證券的調查
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ASML 尼康 光刻機
日本佳能一直在投資納米壓印（Nano-imprint Lithography，NIL）這種新的芯片制造技術，并宣布推出“FPA-1200NZ2C”納米壓印半導體制造設備集群。計劃將新型芯片制造設備的價格定為阿斯麥極紫外光刻機的十分之一左右，從而在光刻機領域取得進展。佳能首席執行官御手洗富士夫（Fujio Mitarai）表示，基于NIL的新型芯片制造設備售價將比阿斯麥（ASML）的極紫外光刻（EUV）設備少一位數，雖然最終的定價目前還沒有敲定，但是可以預見將為小型芯片制造商生產先進芯片開辟出一條新的道路。
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佳能 納米壓印 光刻機 ASML 半導體
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