- ASML集團公司在美國舊金山舉行的SEMICON West展會上發布多項全新光刻設備，讓芯片制造商能夠繼續縮小半導體器件尺寸。FlexRay™ (可編程照明技術)和BaseLiner™ (反饋式調控機制)為ASML一體化光刻技術 (holistic lithography)的一部分，具有高穩定性，能夠優化和穩定制造工藝。
半導體行業發展的推動力量來自小型化趨勢，以降低生產成本，同時提高器件性能。不過，隨著半導體器件尺寸的縮小，工藝窗口(生產出合格芯片的工藝允許偏差)也相應
- 關鍵字：
ASML FlexRay BaseLiner Eclipse
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