- EVG在SEMICON China 2011展會期間推出EVG620HBL光刻系統。 這一全新的EVG620HBL全自動光刻系統以經過實戰作業驗證的EVG光刻機平臺為基礎，旨在優化高亮度發光二極管(HB - LED)、復合半導體和動力電子設備的生產制造。據悉，EVG620HBL增加了一個高強度紫外線光源和五個向盒裝卸臺，可以不間斷地制造設備。
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EVG 光刻系統
- 世界領先的先進半導體與封裝、微機電系統、硅絕緣體(SOI)和新興納米技術市場晶圓鍵合與光刻設備應供應商EVG宣布，其產品組合中再添新成員。 這一全新的EVG620HBL全自動光刻系統以經過實戰作業驗證的EVG光刻機平臺為基礎，旨在優化高亮度發光二極管(HB - LED)、復合半導體和動力電子設備的生產制造。據悉，EVG620HBL增加了一個高強度紫外線光源和五個向盒裝卸臺，可以不間斷地制造設備。
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EVG 光刻系統
- Maskless Lithography公司今天首次公開推出全新的可提高印制電路板(PCB) 生產門檻的直寫數字成像技術。這種MLI-2027直寫光刻系統首次在業內同時實現高精度、高生產效率和高成品率，並采用標準的“非激光直接成像(Non-LDI)” 抗蝕劑。Maskless公司今天還宣布Sanmina-SCI公司通過在洛杉磯的工廠中對Maskless MLI-2027設備進行測試、驗證和認證后，購買了該公司的首臺產品。
“這臺設備的售出標志著我們五年的研發工
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Maskless-Lithography PCB 光刻系統 MLI-2027
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