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Maskless Lithography推出用于大批量PCB生產(chǎn)的直寫光刻設(shè)備

作者: 時間:2010-04-08 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

  Maskless Lithography公司今天首次公開推出全新的可提高印制電路板() 生產(chǎn)門檻的直寫數(shù)字成像技術(shù)。這種直寫首次在業(yè)內(nèi)同時實現(xiàn)高精度、高生產(chǎn)效率和高成品率,並采用標準的“非激光直接成像(Non-LDI)” 抗蝕劑。Maskless公司今天還宣布Sanmina-SCI公司通過在洛杉磯的工廠中對Maskless 設(shè)備進行測試、驗證和認證后,購買了該公司的首臺產(chǎn)品。

本文引用地址:http://www.j9360.com/article/107748.htm

  “這臺設(shè)備的售出標志著我們五年的研發(fā)工作已經(jīng)開花結(jié)果,” Maskless Lithography公司的創(chuàng)立者兼CTO Dan Meisburger博士表示,“2005年,憑借我們合作創(chuàng)始人在光刻和測試領(lǐng)域的豐富經(jīng)驗,我們發(fā)現(xiàn)我們可開發(fā)出一種能為市場提供巨大價值的。我們相信現(xiàn)在我們已經(jīng)超越了最初的構(gòu)想,已做好分享這種已通過試驗和測試的產(chǎn)品的準備。”

  是一種高效率、高產(chǎn)出的生產(chǎn)系統(tǒng),它通過提供一種更加節(jié)約成本的光刻技術(shù)來提高PCB產(chǎn)商的盈利能力。這種光刻技術(shù)與市場上的其它產(chǎn)品相比,具有更高的成品率和投資回報率。基于已注冊專利的灰度級成像™(GLI)技術(shù),這種MLI-2027產(chǎn)品在傳統(tǒng)的干膜抗蝕劑(dry film resists)上具有超高印刷速度,同時還能進行畸變校正。

  “我們對Maskless推出的這種獨特的直寫光刻設(shè)備印象深刻,” Sanmina-SCI公司的運營副總裁Mike Keri表示,“MLI-2027讓我們能夠采用傳統(tǒng)的產(chǎn)品在傳統(tǒng)的干膜抗蝕劑(dry film resists)來實現(xiàn)具有高挑戰(zhàn)性的設(shè)計,同時擁有高成品率和高生產(chǎn)效率。”



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