a一级爱做片免费观看欧美,久久国产一区二区,日本一二三区免费,久草视频手机在线观看

新聞中心

EEPW首頁 > EDA/PCB > 業界動態 > 北京微電子國際研討會再燃摩爾定律之爭

北京微電子國際研討會再燃摩爾定律之爭

作者: 時間:2009-10-28 來源:SEMI 收藏

  在全球半導體產業復蘇之際,北京微電子國際研討會于10月27日成功召開,這一引領半導體產業發展的“圣經”再次成為了主題演講會場爭論的焦點。

本文引用地址:http://www.j9360.com/article/99315.htm

  減速之爭

  中國研究院院長方之熙認為,還將延續,技術的發展不會止步。目前已開始15nm技術的研發,2011年將開始10nm技術的研發。追溯的歷史,每兩年一代的新技術推出從未延遲,例如2005年的65nm技術,2007年的技術及2009年的32nm技術都為業界帶來的全新的產品。“摩爾定律不會減速,但設計與制造成本的增加的確是事實,因此如何將更多的功能整合在一起,減少小批量產品將是對企業的一大挑戰。”

  Synopsys副總裁潘建岳認為,摩爾定律的延緩從開始已很明顯,在之前的90nm和65nm,自技術開發成熟后,大批量產品上市ramp up通常需要2年的時間,但在 技術代,ramp up速度已明顯出現了滯后。不過這對中國的半導體產業來說是件好事,因為我們追趕國際先進的腳步將因此而更快。

  在摩爾定律的引導下,更多的科學家在探索新材料與新工藝。SEMI中國區總裁陸郝安指出,為了提高半導體的性能,越來越多的元素已被成功應用于半導體工藝之中。HKMG等新材料與新工藝的應用將使半導體技術不斷發展自己,并超越自己。

  摩爾定律的超越

  Intel在追逐摩爾定律的同時,More Than Moore也是Intel中國研究院的重點研究課題之一。方之熙介紹,CPU與存儲器的3D封裝將可能是未來的發展方向之一。為解決CPU與Memory之間傳送速度及管腳限制等問題,光互連傳輸已在Intel得到成功開發。在Intel中國研究院10月中開幕儀式上,Intel就成功展示了第一套Light Peak高速光連線技術原型驗證平臺,實現在Light Peak上承載DisplayPort 協議,傳輸帶寬高達10Gbps。

  SOC技術的發展也是業界關注的焦點之一。“目前的SOC技術才剛剛開始,都還只是簡單的集成,”方之熙說。SOC未來在汽車電子等領域將有很大的發展空間。當然IP core的利用等問題也是需要仔細探討的。

  中國半導體產業的機會

  半導體是新興產業,也是高科技的代表行業之一。每一次的危機都會給產業帶來新的變化。而此次中國在危機中率先復蘇,就充分證明了中國的實力。中國半導體行業協會理事長江上舟認為,目前越來越多的IDM向Fab Lite轉型,這對中國半導體制造產業來說無疑是一個重大機遇。中國的半導體制造、設計與設備行業都應該努力邁向世界先進水平。

  陸郝安說,SEMI作為國際半導體行業協會,愿意搭建國際的溝通橋梁,中國業者只要堅定信心,就必定有更大的發展。



關鍵詞: Intel 摩爾定律 45nm

評論


相關推薦

技術專區

關閉