問題的關鍵在于使用干涉圖樣，不同波長的相干光在不同位置會彼此增強或抵消。研究者將這種對光反應變色的材料，材料改變顏色后，便會對對應的光線透明。曝光時用一對圖樣的蒙板，各自采用不同波長的光同時進行曝光。當一種波長的亮線與另一種波長的暗線對應交疊時，極細小的線條就產生了。這一層材料便可作為蒙板，用第一種波長的光線照明，就像用負片在相紙上沖洗出照片一樣，在底層材料上留下圖樣。

　　這個研究是由電子學研究實驗室工程師Rajesh Menon和化學系研究生Trisha Andrew以及電子工程與計算機科學系的研究生Hsin-Yu共同完成的，研究的論文已經發表在4月10日的《科學》雜志上。

這項了不起的新技術，研究人員成為吸光率調制，使得制造出所用光線波長十分之一粗細的線條成為可能。成功實現這一過程的部分關鍵在于找到合適的光敏材料，其在最初曝光之后透明與不透明區域都應保持穩定。

使用這種方法，研究團隊制造出了36納米寬的線條，并宣稱他們還可以制造出許多同樣大小間隔的線條。

Menon說，這種技術會對芯片制造帶來顯著的沖擊，也會使依賴于納米尺度技術的新興領域的研究工作成為可能，包括納米光子學，納米流體力學，納米電子學以及納米生物系統。

Menon已經成立一個公司，以繼續這項技術的研發，他期望能在5年內實現商用化。

但這并不是這一技術唯一的潛在運用，Menon稱他的團隊正在尋求這套系統在成像系統中的可能運用，有可能使納米尺度的新型顯微鏡成為可能，這在生物學與材料科學中將有巨大應用前景。同時，他也在尋求使用這種技術把類似圖案的尺度降低到單個分子的大小。