根據Intel公司的介紹當同時使用N-channel 和P-channel 兩種材料之后就可以制造 CMOS電路塊。并且擁有制造未來處理器產品的潛力。值得一提的就是基于新材料的處理器功耗將非常低，工作核心電壓將只有當前處理器的50％，功耗只有當前晶體管的10％。

　　如果這項創新能夠在處理器產品上得到應用，那么這將會為我們帶來體積更小、功耗更低、性能更加強大的處理器。很顯然的是新材料將來還可以應用在顯卡以及其他高集成度設備上。

目前，Intel公司正在著力研究新材料的實用化。