非贏不可的一戰：臺積電明年Q1建10納米試產線
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編者按： 雖然是半導體制造領域的老大，臺積電也有著自己的心事。在半導體制造方面，如何拉開與英特爾、三星等勁敵的差距？這也是心事之一。顯然，10nm生產線就是一個拉開差距的機會，也可謂是最關鍵的一役。
業界傳出，臺積電除加速南科廠16納米產能布建，也決定在明年第1季于中科建置10納米試產線，透露臺積電將以中科作為10納米生產重鎮，并加快試產腳步，拉開與英特爾、三星等勁敵的差距。
本文引用地址：http://www.j9360.com/article/262175.htm臺積電并未對相關傳聞置評。設備商透露，受制于設備大廠艾斯摩爾(ASML)極紫外光(EUV)技術輸出率仍未達量產需求，臺積電10納米仍會以浸潤式機臺進行多重曝光方式，作為顯影核心設備，并集中于12寸晶圓廠生產。
10納米制程被臺積電視為「最關鍵的一役」，臺積電董事長張忠謀稍早透露，臺積電短期恐在16納米市占略為落后輸競爭對手，不過，臺積電有信心很快搶回市占率，并積極導入10納米等更先進的制程，預定明年下半年完成產品設計定案。
張忠謀當時說，臺積電2013年開始進行10納米技術開發，10納米技術將是繼16納米FinFET(鰭式場效晶體管)及強效版制程16FinFET+之后的第三代FinFET制程，效能與密度將是業界第一。
臺積電對內宣示，10納米是「非贏不可的一戰」，一定要做到比英特爾好，因此由張忠謀親自督軍，并號名近400位研發人員成立「夜鷹計劃」，讓10納米研發無縫接軌、縮短學習曲線。
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