應用材料公司推出面向3D芯片結構的先進離子注入系統
應用材料公司今天宣布全新推出Applied Varian VIISta® 900 3D系統。作為業內領先的中電流離子注入設備,該系統專為2x納米以下節點的FinFET和3D NAND制程而開發,具有超凡的控制能力,可以幫助高性能、高密度的復雜3D器件實現器件性能優化,降低可變性,提高良率,是應用材料公司在精密材料工程領域的又一重大突破。
本文引用地址:http://www.j9360.com/article/249323.htmVIISta 900 3D系統能有效提高離子束角度精度和束線形狀準確度,并且還能夠出色的控制離子劑量和均勻性,從而幫助客戶實現制程的可重復性,優化器件性能。該系統采用獨特的熱注入技術和三重磁場結構,可通過降低缺陷率來進一步提高良率。憑借這些優勢,VIISta 900 3D系統能勝任復雜3D結構生產中所需的精確離子注入。
應用材料公司維利安半導體設備事業部副總裁兼總經理Gary Rosen表示:“為滿足消費者對移動設備日益上升的需求,芯片制造商致力于生產更高性能、更低功耗的設備,同時他們也面臨著工藝日趨復雜的挑戰。為此,我們針對3D結構專門開發了這款VIISta 900 3D離子注入機,通過實現最純凈、最精確的離子注入,提高設備性能和良率,幫助客戶應對最嚴峻的器件挑戰。”
VIISta 900 3D系統的一個最重要的創新就是Superscan 3技術,它可以借助獨特的離子束形狀控制能力,根據客戶需要提供精確、精準的劑量方案,能完成幾乎所有圖案,實現定制化的硅片劑量圖形。Superscan 3還能對非注入工藝中的變量進行校正,從而提高3D器件的性能和良率。此外,加上該系統對于生產率的提升以及其極高的產出率,可為客戶帶來顯著的成本優勢。
VIISta 900 3D系統的推出進一步加強了應用材料公司在FinFET和3D NAND設備制造領域的領先優勢,其高精度、低污染的性能表現尤其適用于CMOS圖像傳感器二極管和邏輯層的摻雜,因此它將會在移動計算領域有著日益廣泛的應用。
應用材料公司(納斯達克:AMAT)是全球領先的精密材料工程解決方案供應商。應用材料公司的創新設備、服務和軟件被廣泛應用于先進半導體芯片、平板顯示器和太陽能光伏產品制造產業。我們的技術使智能手機、平板電視和太陽能面板等創新產品以更普及、更具價格優勢的方式惠及全球商界和普通消費者。欲了解更多信息,請訪問:www.appliedmaterials.com。
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