SK集團(SKGroup)在接連購并OCIMaterials與樂金Siltron(LGSiltron)之后，子公司SKInnovation也將發展半導體材料事業，加速以SK海力士(SKHynix)為主軸的材料、零組件事業垂直整合。

　　據韓媒ETNews報導，業界消息表示，SKInnovation以對SK海力士供應產品為目的，正從事光阻劑(Photoresist)研發。近期SKInnovation已將少量光阻劑樣品交給SK海力士進行測試，后續經由意見回饋改善品質后，朝向量產目標邁進。

　　光阻劑用在硅晶圓的曝光制程，與通過光罩的光作用形成電路圖形。曝光設備與材料依照曝光波長分為G-line、I-line、KrF、ArF與極紫外光(EUV)等多種方式，其中以極紫外光最為先進。

　　SKInnovation開發的是用在生產3DNANDFlash的KrF光阻劑，涂布在晶圓上時必須形成10?以上的厚膜，之后才能順利將存儲器單元(Cell)堆疊成垂直構造。

　　ArF與極紫外光的光阻劑材料市場主要由信越化學(Shin-EtsuChemical)、住友化學(SumitomoChemical)、東京應化工業(TOK)、JSR等日本業者掌握;南韓東進世美肯(DongjinSemichem)與德國默克(Merck)供應技術難易度相對較低的3DNANDFlashKrF光阻劑。

　　SKInnovation表示，公司從2年前開始著手研發光阻劑等電子材料，希望能以石油、潤滑油領域累積的技術能量，也在特殊化學材料市場取得斬獲。

　　SK集團在將海力士納入旗下后，開始以購并策略強化半導體材料、零組件事業能量。2016年1月買下半導體特殊氣體業者OCIMaterials并更名為SKMaterials。

　　SKMaterials生產三氟化氮(NF3)，用來清除半導體機臺腔體內的殘留物質，全球市占率第一。2016年SKMaterials先后與日本TriChemicalLaboratories及昭和電工(ShowaDenko)合資成立子公司SKTriChem、SKShowaDenko。

　　SKTriChem生產鋯(Zr)系前驅體(Precursor)高介電(High-K)蒸鍍材料;SKShowaDenko生產蝕刻氣體三氟甲烷(CH3F)。這兩項材料都將對SK海力士供應。

　　2017年初SK集團再度向樂金集團(LGGroup)購買硅晶圓公司樂金Siltron過半數股權。先前SK海力士分別向信越化學、Sumco、SunEdisonSemiconductor、Siltronic及樂金Siltron等5家供應商采購硅晶圓，未來應會增加對樂金Siltron的采購量。

　　業界表示，2015年SK集團會長崔泰源訂定2020年集團營收目標200兆韓元(約1,779億美元)，并選定多項領域作為新樹種事業培育，其中規模最大的就是半導體及相關材料與零組件事業。之后SK集團主要子公司紛紛投入相關研發，如SKC的子公司SKCSolmics正在開發光罩基底(MaskBlank)。

　　日本Hoya、成膜光電(Ulcoat)是光罩基底市場主要供應商，南韓業者S&STech也自主研發，將產品往海外市場銷售。SKCSolmics若能成功將光罩基底帶入商用化，未來可望大幅提高營收。

　　SKInnovation對開發3DNANDFlash的KrF光阻劑傳聞表示，光阻劑等各種電子材料化學產品都還在開發階段，是否進行量產還需經過審慎評估才能確定。