據路透社4月24日晚間消息，日本尼康 (Nikon) 宣布在荷蘭、德國與日本針對 ASML(艾司摩爾) 和合作伙伴卡爾蔡司 (Carl Zeiss AG)的專利侵權提起訴訟，并表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經 Nikon 的許可下將其微影 (lithography) 技術專利用于光刻機上，并運用在半導體制造業中。尼康在訴訟文件中稱，要求 ASML 和 Carl Zeiss AG 對未授權使用專利技術而做出賠償。

　　尼康曾在半導體設備產業叱咤一時，是全球第八大半導體設備廠商。據尼康公布的2017財年第三季度財報(2016年4月1日~12月31日)顯示，營業利潤下降了41%，尼康凈利潤虧損0.5億元人民幣，而上年同期盈利還高達11億人民幣。

　　ASML 發布聲明表示，尚未就此法律行動收到通知，斷然否認任何侵權指控。ASML 認為 Nikon 的指控缺乏依據，將考慮采取所有方案，堅定地維護權益。

　　對此，ASML 總裁兼CEO彼得·溫尼克(Peter Wennink)稱：“尼康的訴訟毫無依據，沒有必要，為半導體市場制造了不確定性。”溫尼克還稱，阿斯麥曾多次試圖與尼康談判，希望能對當前的一份交叉授權協議進行延期。

　　根據 ASML 的年度報告和 20-F 表格里的披露訊息，ASML 和 Nikon 在 2004 年簽訂了一項專利交叉授權協議，部分專利已獲永久授權，其他專利的授權日期已于 2009年12月31日結束，雙方同意互不采取法律行動的過渡期亦于2014年12月31日結束。

　　Nikon 則表示，法律訴訟是在由美國退休法官于 2016 年底進行的調解未成之后所決定發起的。而根據 Nikon 的說法，提起訴訟的 3 項微影技術專利，ASML 和 Carl Zeiss 兩家公司分別在 2004 年支付 Nikon 8,700萬 美元和 5,800 萬美元的授權金。授權期限在 2009 年到期，而 2014 年底其專利權的過渡期也到期之后，雙方在 2016 年底經過調解協商延長交叉許可協議未成。

　　當前，光刻系統被廣泛應用于制造半導體，而 ASML 又主導著半導體光刻機市場。據評級機構“惠譽評級”(Fitch Ratings)今年1月發布的調研報告顯示，在高端光刻機市場，ASML 的份額高達90%。而 ASML 公布的 2017 年第 1 季財報顯示，第 1 季營收凈利達 19.4 億歐元，毛利率為 47.6%，且預估第 2 季營收凈利在 19 到 20 億歐元之間，毛利率約為 43% 到 44%。

　　尼康曾是日本半導體制造技術的代表廠商，1993 年尼康的半導體曝光設備全球市占率達 48.4%，幾乎在市場稱王。1984 年設立的 ASML，在創建初期遠遠不及尼康。然而尼康好景不常，至 2000 年左右，ASML 市占率開始快速攀升，最后不僅超越尼康，2015 年全球市占率高達 81%，尼康只剩 12.1%。

　　尼康與 ASML 的差距在哪里?從技術面來說，ASML 采取開放的技術制度，積極與外部研究機關或部門企業攜手，共同尋求革新。尼康則貫徹“黑盒子(Black Box)”路線，產品一律由自家研發，自家制造。

　　尼康的高端半導體曝光設備單價高達 50 億日圓，只要比預期少賣 1 臺，都會對業績帶來極大影響。在2014 會計年度，尼康預估高端半導體設備“ArF”可賣 18 臺，但全年只賣出 5 臺，顯示該企業的設備產品似乎乏人問津。