全球領先的全套互連產品供應商Molex公司子公司Polymicro Technologies最近宣布提升其FDP光纖產品，最新的性能提升改進了光纖產品在深紫外線應用(190nm - 325nm)中的曝曬。

　　Polymicro Technologies全球產品經理Teodor Tichindelean表示：“推出光纖FDP革新性紫外線應用，讓我們很高興為客戶帶來具有更好品質的增強型FDP光纖產品，用于耐受紫外線曝曬。”

　　Polymicro公司的silica內芯FDP光纖具有超高紫外線傳輸和超低紫外線曝曬特性，具有出色的耐輻射能力。在低至190nm條件下運作，并且具有出色的深紫外線耐曝曬特性，FDP光纖已經成為深紫外線領域應用的首選光纖產品。新型FDP光纖提供了更好的耐曝曬性能，來維持更長的傳輸時間，同時最大限度地減少對光纖的損壞。

　　對于深紫外線領域應用，高水平紫外線輻射的影響會引起光纖傳輸退化，光纖傳輸通常在數小時后發生損耗。

　　Tichindelean補充道：“與先前的產品型款相比，改進的FDP光纖在初始退化之后可將光輸出提高大約10%。對于Polymicro客戶，這可以轉化為更好的光發射和更長的產品壽命。”

　　Polymicro FDP光纖實現了對尺寸的控制和緊密的容差，并備有一系列選項，包括定制內芯尺寸、涂層、緩存和配件。Molex和Polymicro設施通過了ISO 9001、13485和14001認證。