TDK株式會社(社長：上釜健宏)針對半導體制造裝置開發出兩種FOUP※載入口(品名：“TAS450 Type A2”及“TAS300 Type J1”)，并從2012年7月起開始銷售。

　　在尖端半導體器件制造過程中高度潔凈環境必不可少，為此需要投入大筆資金，配備大規模空氣潔凈裝置等設備。為了控制此類設備投資，近年來主要采用的方式是將半導體基板(晶圓)收納于安全密封的傳送盒(FOUP)中，在半導體制造裝置之間進行自動傳送。　　

　　此次，敝社開發和銷售的兩種新產品的概要如下。

　　1.　關于TAS450 Type A2
　　新機型滿足新一代直徑為450mm尺寸晶圓要求，并實現了行業內最高水準的塵粒控制效果

　　主要特點
　　該產品使用被喻為半導體行業的新一代技術，即直徑為450mm的硅晶圓，是作為制造半導體的工藝中最新型傳送裝置而開發的。

　　此外，為防止晶圓出入之際產生的塵粒(垃圾)，研究了門的開關方式以防止外部塵粒進入半導體裝置內部，并且還著力研究防止該產品自身產生塵粒。

　　2.　關于TAS300 Type J1
　　新機型實現行業最高水準的輕量化和高速化并具備價格競爭力

　　主要特點
　　該產品是使用于半導體行業內現有制造工藝中，直徑為300mm的硅晶圓傳送裝置，是作為提高價格競爭力的新機型而開發的。它是2009年投放市場的Type H1系列的后續機型，通過實現整體裝置的輕量化，重量比以往產品減少了1/2。在晶圓出入門開關速度方面，與H1系列相比速度約提高40%。此外，開關門與TAS450 Type A2一樣，也采用了防止產生和進入塵粒設計。