IBM公司近日宣布其名下的芯片制造廠中將停止使用全氟辛烷磺酰基化合物(PFOS)和全氟辛酸(PFOA)兩種有毒有害化合物。多年前，在歐盟以及其它 一些國家的環保部門出臺限制使用這兩種化合物的法規之后，美國環保署也出臺了限制在消費級產品的生產過程中使用這兩種化合物的法規，這兩種化合物一般用于 防污和防潮處理。

　　不過在半導體制造產業中，仍允許使用這兩種化合物，半導體制造的光刻和蝕刻工步需要少量使用這兩種化合物。經過10多年的努力，IBM終于找到了這兩種有毒化合物的替代用品。

　　IBM公司主管微電子事物的總經理Michael Cadigan稱：“開發這類化合物替代品的工作是一項相當艱難的任務。我們需要驗證采用新配方后的每一個制造環節都不會出問題，而且還不能影響到我們產品的質量和供貨能力。”他還介紹說：“由于IBM與多家廠商結成了開發聯盟，因此至少還有五個國家里的多家半導體廠商都可以使用我們這次開發出來的無毒化合物進行生產。”