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芯片良率 文章 進入芯片良率技術社區

泛林集團推出全球首個晶圓邊緣沉積解決方案以提高芯片良率

  • 近日,泛林集團 (Nasdaq: LRCX) 推出了Coronus DX產品,這是業界首個晶圓邊緣沉積解決方案,旨在更好地應對下一代邏輯、3D NAND和先進封裝應用中的關鍵制造挑戰。隨著半導體芯片關鍵尺寸的不斷縮小,其制造變得越來越復雜,在硅晶圓上構建納米級器件需要數百個工藝步驟。僅需一個工藝步驟,Coronus DX 可在晶圓邊緣的兩側沉積一層專有的保護膜,有助于防止在先進半導體制造過程中經常發生的缺陷和損壞。這一強大的保護技術提高了良率,并使芯片制造商能夠實施新的前沿工藝來生產下一代芯片。Coron
  • 關鍵字: 泛林集團  晶圓邊緣沉積  芯片良率  
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