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KLA-TENCOR 推出用于測量等離子室效應的 PLASMAVOLT X2

  •   KLA-Tencor 公司日前推出了 PlasmaVolt X2,可用于在半導體晶圓處理系統中測量等離子室的狀況。由于增加了內嵌式傳感器數量,且空間分辨率得到改善,PlasmaVolt X2 對各種參數的變化極為敏感,例如無線電頻率 (RF) 功率、氣流、磁場及等離子室設計。這種等離子行為測量和特征化系統能改善生產環境中的等離子室配對、機臺檢驗、系統故障排除及工藝開發。    KLA-Tencor 的 SensArray 分部高級副總裁兼總經理 Larry Wagner 表示:&ldquo
  • 關鍵字: KLA-TENCOR  PLASMAVOLT  
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