a一级爱做片免费观看欧美,久久国产一区二区,日本一二三区免费,久草视频手机在线观看

首頁  資訊  商機   下載  拆解   高校  招聘   雜志  會展  EETV  百科   問答  電路圖  工程師手冊   Datasheet  100例   活動中心  E周刊閱讀   樣片申請
EEPW首頁 >> 主題列表 >> 20nm

20nm之后將采取三維層疊技術

  •   在今后的2年~3年內,NAND閃存的集成度仍將保持目前的發展速度。具體來說,到2011年~2012年,通過采用2Xnm的制造工藝與3位/單元~4位/單元的多值技術,NAND閃存很有可能實現128Gb的容量。   但是,如果要實現超過128Gb的更大容量,恐怕就需要全新的技術。目前正在量產的NAND閃存通常都使用浮柵結構的存儲單元。許多工程師也認為,2011年~2012年將量產的2Xnm工藝及其后的20nm工藝仍可采用現有的浮柵結構的存儲單元。但據SanDisk公司分析,當工藝發展到20nm以下時,從
  • 關鍵字: SanDisk  20nm  NAND  
共76條 6/6 |‹ « 1 2 3 4 5 6

20nm介紹

您好,目前還沒有人創建詞條20nm!
歡迎您創建該詞條,闡述對20nm的理解,并與今后在此搜索20nm的朋友們分享。    創建詞條

熱門主題

20nm    樹莓派    linux   
關于我們 - 廣告服務 - 企業會員服務 - 網站地圖 - 聯系我們 - 征稿 - 友情鏈接 - 手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案:1101082052    京公網安備11010802012473