a一级爱做片免费观看欧美,久久国产一区二区,日本一二三区免费,久草视频手机在线观看

首頁　 資訊　 商機 　 下載　 拆解 　 高校　 招聘 　 雜志　 會展　 EETV　 百科 　 問答　 電路圖　 工程師手冊 　 Datasheet　 100例 　 活動中心　 E周刊閱讀 　 樣片申請
EEPW首頁 >> 主題列表 >> 原子層沉積

原子層沉積 文章 進入原子層沉積技術社區

建設高端半導體裝備，SRII賦能新一代集成電路制造

  • 思銳智能攜業界尖端的離子注入（IMP）和原子層沉積（ALD）技術亮相SEMICON China 2024，持續建設全球一流的高端半導體制造裝備，廣泛賦能集成電路、第三代半導體等諸多高精尖領域。展會現場精彩瞬間思銳智能離子注入機（IMP）模型根據SEMI的數據，受芯片需求疲軟等影響，2023年全球半導體設備銷售額為1056億美元，同比下降1.9%，而中國大陸地區半導體設備銷售額同比增長28.3%。中國對成熟節點技術表現出了強勁的需求和消費能力。縱觀全局，離子注入已成為半導體器件制備中最主要的摻雜方法，是最基
  • 關鍵字： 高端半導體裝備  SRII  集成電路制造  思銳智能  SEMICON China  離子注入  IMP  原子層沉積  ALD  

創新，引領未來

  • 原子層沉積(ALD, Atomic Layer Deposition)工藝，是當前及未來工藝節點相關的收縮及更復雜器件幾何形狀上沉積薄層材料的關鍵技術。如今，隨著技術節點以驚人的速度持續進步，精確而又高效地生成關鍵器件特征成為了一項持久的挑戰。 原子層沉積工藝依靠專業的高性能原子層沉積閥在數百萬個脈沖中輸送精確的化學品劑量，構建形成材料層。為了達到原子級精密度和高生產良品率，輸送這些脈沖式化學品劑量的閥門必須日益精確且一致。世偉洛克一直致力于此，不斷刷新ALD閥使用壽命、響應時間、高溫高流量應用
  • 關鍵字： 原子層沉積  ALD  世偉洛克  超高純隔膜閥  
共2條 1/1 1

原子層沉積介紹

您好，目前還沒有人創建詞條原子層沉積!
歡迎您創建該詞條，闡述對原子層沉積的理解，并與今后在此搜索原子層沉積的朋友們分享。    創建詞條

熱門主題

樹莓派    linux   
關于我們 - 廣告服務 - 企業會員服務 - 網站地圖 - 聯系我們 - 征稿 - 友情鏈接 - 手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052    京公網安備11010802012473