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華虹NEC 0.162微米CIS工藝成功進入量產

作者: 時間:2009-09-22 來源:SEMI 收藏

  世界領先的純廠之一,上海電子有限公司(以下簡稱“”)日前宣布成功開發了0.162微米 (CIS162) 工藝技術,已進入量產階段。

本文引用地址:http://www.j9360.com/article/98331.htm

  和關鍵客戶合作共同開發的CIS162工藝是基于標準0.162微米純邏輯工藝,1.8V的核心器件,3.3V的輸入輸出電路。經過精細調整集成了4個功能晶體管和光電二極管(photo diode) 的像素單元可以提供超低的漏電和高清優質的圖像。而特別處理的后端布線工藝保證了像素區高敏感性,可以在同樣條件下得到更好的圖像對比度和清晰度。該工藝可廣泛應用于各種電子產品,如手機攝像頭、數碼相機(DSC)、數碼攝像機(DVC)、計算機(PC)、玩具(Toy)等。

  華虹NEC的CIS162工藝完全兼容現有的工藝, 既具備工藝的穩定性,又能滿足圖象傳感器的低噪聲、高清晰要求。CIS162的成功開發加快了華虹NEC在消費電子類數字圖像處理領域的開拓步伐。



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