IC芯片產業在進入納米時代后，生產工藝復雜度和物理極限等局限開始挑戰被稱為定律的“Moor’s Law”。同時，EDA技術的發展不但完全融入到電子產品的設計和定型過程中，并且開始涉足包括存檔、生產、制造、測試等環節，幫助IC產業迎接工藝極限的挑戰。

　　作為EDA行業的佼佼者，Mentor Graphics公司一年一度的“Mentor Graphics EDA Tech Forum 2007”備受關注。今年的技術論壇以 “洞悉您最復雜的設計挑戰!”為主題在全球18個城市巡回開展。8月31日，Mentor Graphics的CEO Walden C. Rhines 先生攜帶著包括The Mathworks、Altera、Lattice, ARM 和Sun等合作伙伴來到北京。在論壇上，Mentor Graphics演示了System Design、Design for Manufacture、Functional Verification 、Electronic System Level等解決方案。

　　依據應用領域和設計對象的區別，EDA技術可以細分為系統級設計、芯片設計、板級設計以及整機系統設計技術等多種流程和方法學。Walden頗為自豪的是Mentor Graphics的技術和產品已經覆蓋了廣泛的EDA領域，但是Walden也表示沒有一家EDA公司能夠做到全能，成功的EDA公司知道如何取舍。

　　這其中，DFM(Design for Manufacture)是Mentor Graphics的關注重點。DFM因為是在IC設計階段便將對生產工藝可能造成的影響考慮在內，而受到歡迎，并且在去年成為EDA市場增長的主要推動力。Walden表示Mentor Graphics占據了DFM市場20%的份額，并且在六月成功收購Sierra Design Automation后，可以將Sierra的工具套件與Mentor Graphics的DRC和DFM工具結合起來。此外，為了提供Foundry與IC設計公司有效的溝通接口， Mentor Graphics已經開始展開與Foundry和IDM廠商的密切合作。Walden介紹說對于Foundry一方面需要考慮如何幫助客戶提高產品的良率，另一面還需要謹防工藝技術泄密，Mentor Graphics針對這些提供編碼方式讓Foundry更加放心。

　　在半導體生產工藝進入65nm后，DFM的關鍵影響力將逐步體現，因為OPC等分辨率增強技術面臨物理極限，市場對PRV(Post-RET Verification)與DFP(DFM in layout-to-silicon-pattern transfer)等DFM方案的需求開始加強。與此同時，市場的競爭也將加劇，有分析顯示2007年加入DFM市場的公司增幅高達75%，但同時也會有相當的競爭者被收購或者被迫退出市場。(山水)

Walden：沒有一家EDA公司能夠提供所有領域的工具