邁入20nm時代 半導體業整并潮加劇
半導體產業整并(Consolidation)現象將更加明顯。半導體晶圓制造商的資本密集度在20納米(nm)及其以下的制程之后,將呈現更驚人的倍數增長態勢,因此能負擔如此巨額資本資出(CAPEX)的廠商家數愈來愈少,帶動半導體設備商、IC設計業者加速展開購并,以力鞏市場勢力版圖。
本文引用地址:http://www.j9360.com/article/221238.htm應用材料(Applied Materials)副總裁暨臺灣區總裁余定陸表示,半導體制造的資本密集度在20納米及其以下制程之后,將大幅增長,以記憶體產業為例,從60納米進展至20納米,資本支出將增加3.4倍;而在IC產業更是高達4倍之多。
余定陸進一步指出,隨著半導體制程推展至20納米及其以下,能負荷龐大制造設備采購成本的晶圓廠家數亦逐漸減少,如目前在22/20納米制程的晶圓廠家數僅余五家;進展至16/14納米制程時,家數可能會再縮減。
此外,半導體產業近十余年來,亦因更多的整合元件制造商(IDM)紛紛轉向采取輕晶圓廠(Fab-lite)和無晶圓廠(Fabless)的策略,致使投資半導體制造資本支出的廠商家數大幅下降。
在半導體制程朝20納米及以下推進之下,晶圓代工廠和半導體制造商家數亦將急速縮減,連帶導致半導體設備商和IC設計業者的合作夥伴數量跟著驟減,將導致市場競爭加劇,于是晶圓代工廠、IDM、半導體設備商及IC設計業者皆紛紛透過收購壯大企業規模,造成半導體產業大者恒大的態勢將會更趨明顯,如近期應用材料已藉由購并競爭對手東京威力科創(Tokyo Electron),躍升為全球最大半導體設備商。
余定陸預期,未來半導體產業大者恒大態勢更加顯著,以半導體設備為例,在眾多產品類別中,市占第一與第二名的差距已非常顯著;且2012年全球前五大半導體設備商的市占已上看63%,未來前五大半導體設備商市占集中度將更高。
評論