10 月 15 日消息，據武漢東湖新技術開發區管理委員會（中國光谷）今日消息，光谷企業在半導體專用光刻膠領域實現重大突破：

武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡稱“太紫微公司”）推出的 T150 A 光刻膠產品，已通過半導體工藝量產驗證，實現配方全自主設計，有望開創國內半導體光刻制造新局面。

中國光谷官方介紹稱：“該產品對標國際頭部企業主流 KrF 光刻膠系列。相較于被業內稱之為‘妖膠’的國外同系列產品 UV1610，T150 A 在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到 120nm，且工藝寬容度更大，穩定性更高，堅膜后烘留膜率優秀，其對后道刻蝕工藝表現更為友好，通過驗證發現 T150 A 中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優異。”

查詢公開資料獲悉，太紫微公司成立于 2024 年 5 月，由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創立。

太紫微公司企業負責人、英國皇家化學會會員、華中科技大學教授朱明強表示：“以原材料的開發為起點，最終獲得具有自主知識產權的配方技術，這只是個開始，我們團隊還會發展一系列應用于不同場景下的 KrF 與 ArF 光刻膠，為國內相關產業帶來更多驚喜。”