當地時間3月18日，英偉達（NVIDIA）宣布臺積電（TSMC）、新思科技（Synopsys）已將其計算光刻平臺投入生產，以加速下一代先進半導體芯片的制造，突破物理極限。

據悉，臺積電與新思科技已將英偉達cuLitho技術與其軟件、制造工業和系統集成，希望加快芯片制造速度，并幫助制造最新一代英偉達Blackwell架構GPU。

英偉達創始人兼首席執行官黃仁勛表示，此次圍繞 cuLitho 展開合作，通過加速計算和生成式AI為半導體微縮開辟了新的方向。此外，英偉達還宣布推出可增強GPU加速計算光刻軟件庫 cuLitho 的全新生成式AI算法。與當前基于CPU的方法相比，大幅改進了半導體制造工藝。

據英偉達介紹稱，計算光刻是半導體制造過程中計算最密集的工作負載，每年消耗數百億小時CPU運行時間。通過英偉達加速計算技術，350套H100組成的系統現在已經可取代40000顆CPU構成的計算集群，這樣可以加快生產時間，同時降低成本、空間和功耗。

據了解，在 cuLitho 加快流程速度的基礎上，這一全新生成式AI工作流程將速度又提升了2倍。以這種方式應用生成式AI可以創建出近乎完美的反向光掩模或反向解決方案來解決光衍射問題，然后再通過傳統的嚴格物理方法制造最終的光掩模，從而將整個光學鄰近效應校正(OPC)流程加快兩倍。