近日，晶盛機電在接受機構調研時表示，目前公司已基本實現8-12英寸大硅片設備的全覆蓋并批量銷售，6英寸碳化硅外延設備實現批量銷售且訂單量快速增長，成功研發出具有國際先進水平的8英寸單片式碳化硅外延生長設備，實現了成熟穩定的8英寸碳化硅外延工藝。同時公司基于產業鏈延伸，開發出了應用于8-12英寸晶圓及封裝端的減薄設備、外延設備、LPCVD設備、ALD設備等。

晶盛機電自2017年開始碳化硅產業布局，聚焦碳化硅襯底片和碳化硅外延設備兩大業務。公司已掌握行業領先的8英寸碳化硅襯底技術和工藝，量產晶片的核心位錯達到行業領先水平，2023年11月公司正式啟動了“年產25萬片6英寸、5萬片8英寸碳化硅襯底片”項目，目前已實現批量生產與銷售。

晶盛機電于2023年推出了6英寸雙片式碳化硅外延設備、8英寸碳化硅外延設備，外延的厚度均勻性、摻雜均勻性達到行業領先水平。

其中6英寸雙片式碳化硅外延設備在外延產能、運營成本等方面已取得國際領先優勢，與單片設備相比，雙片設備單臺產能增加70%，單片運營成本降幅可達30%以上，助力客戶創造極大價值。

8英寸碳化硅外延設備可兼容6、8寸碳化硅外延生產，解決了腔體設計中的溫場均勻性、流場均勻性等控制難題，外延的厚度均勻性1.5%以內、摻雜均勻性4%以內，達到行業領先水平。